氧化炉
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温度: 1,230, 1,100, 400 °C
宽度: 180, 230 mm
高度: 100, 150 mm
... EASYLAB 系列窑炉尤其适用于实验室或技术教育领域,同时也能满足车间的需求,特别是在测试或工业化前阶段。有多种执行方式可供选择,以重现生产炉的工艺条件。请向我们咨询您的具体需求。 ...
宽度: 1,250 mm
高度: 3,450 mm
深度: 3,200 mm
... 该炉是用于硅片、IGBT、聚酰亚胺和薄片氧化、扩散和CVD的热处理系统。作为我们的旗舰型号,该炉配备了一个大容量的储存器,并具有较短的周期时间。 特点 大批量,最多可以批量处理100片硅片 最多16个FOUP库存 通过使用LGO加热器实现从低温到中高温范围内的出色温度控制 通过使用单片/五片晶圆处理机器人实现高速晶圆传输 配有操作简便的高性能控制系统 这种大批量大规模生产型立式扩散炉每批最多可以处理100片硅片(300毫米/12英寸)或16个FOUP。采用LGO加热器,具有从低温到中高温的优异温度特性。除了硅片之外,该炉还适用于IGBT、聚酰亚胺、薄片和其他材料的热处理。 ...
Koyo Thermos Systems
温度: 650 °C
宽度: 900 mm
高度: 600, 900 mm
... 全自动的、最先进的综合解决方案 通过气氛控制(Kn调节),优化和追踪处理过程 与传统处理方法相比,可节省高达50%的气体。 是符合航空标准和Nadcap应用的完美选择。 处理的可能性 氮化处理 渗碳氮化 低压氮化 低压软氮化 预氧化、后氧化 保护气氛下的回火 快速冷却 可处理的钢材类型 氮化钢 低合金钢 不锈钢 技术特点 装载尺寸 900 x 600 x 600mm / 600kg 900 x 900 x 1200mm / 1000kg 马弗炉外加热 加热功率从80到180千瓦 JM ...
温度: 0 °C - 2,200 °C
... 我们广受欢迎的中型热处理炉包含一个 1 立方英尺(28 升)的可用区,温度最高可达 2200°C,并可配备多种选件。 所示设备配有涡轮增压系统和人机界面计算机接口包。其他选件包括氢气、扩散和低温泵系统、用于气体快速冷却的热交换器、高温计等。我们可根据您的具体需求定制窑炉。 热区采用钨棒或网状加热元件,可确保极佳的均匀性和使用寿命。 该炉配备了直观易用的计算机界面,可实现全自动运行。它提供数据采集、报警显示和记录、用于温度控制的无限配方配置文件、安全性、配置设置等功能。电脑是安装在控制台上的工业平板电脑,可抵御恶劣环境。 一般规格 ...
Materials Research Furnaces
温度: 0 °C - 2,200 °C
... 我们的大型热处理炉具有 3 立方英尺(84 升)的可用区域,与其他热处理炉一样,温度可高达 2200° C, 负载限制为 800 磅(364 公斤),具有高负载能力。 此处所示的装置具有 16 ″ 扩散泵系统,以及用于快速冷却的气体热交换器。 热区采用钨、钼或钽网或棒加热元件,确保了出色的均匀性、寿命和产品兼容性。 该炉具有高承载能力和大尺寸,专为生产或加工大批产品而设计。 ...
Materials Research Furnaces
温度: 0 °C - 2,200 °C
... 我们的小型热处理炉包含一个 0.3 立方英尺(8.4 升)可用区域,温度可高达 2200° C,并且可以配备多种选择。 此处所示的单元具有带露点控制的氢润湿系统和一个 6 ″ 扩散泵系统。 其他选项可供选择。 热区采用钨网加热元件,提供优异的均匀性和使用寿命。 控制面板可以完全控制炉子。 我们的可选的 PC 控制套件提供了额外的功能,如数据趋势和存储(数据采集),报警的显示和记录,无限的温度控制配方配置文件,用户安全等,该炉适用于研发和小型批量生产。 ...
Materials Research Furnaces
温度: 0 °C - 950 °C
光亮退火线,实现合金和非合金铜带的优质、高效、高产。寥寥数语道出艾伯纳光亮退火技术的优势所在,也正是艾伯纳在欧亚地区获得成功的保证。 艾伯纳带材清洗系统为后续处理过程做足充分准备,无论是热处理或者其他处理过程如钝化。 艾伯纳光亮退火线设计采用立式结构,目的在于在铜合金的光亮退火过程中充分利用全氢气氛,有效防止氧敏感的铜合金出现氧化现象。 HICON/H2 马弗炉设计及喷射通道设计成功实现最佳的材料机械性能,获得干净无瑕的平整的退火表面,以及通过最低的张力达到平直度。 艾伯纳技术可实现带厚为0.05-5毫米的带材的退火处理。 艾伯纳马弗炉设计特点: 绝佳的气密性设计,氢气氢量可达75 ...
EBNER
是一种去除边缘隔离(Edge isolation)及PSG后,在硅片表面形成钝化层 (passivation)膜,提升组效率的设备。 规格 高产量: 14,400 wafers/hr (2,400 wafers/boat) 循环时间:60 min 运行时间:99%
温度: 538 °C
... PN 系列惰性气氛烤箱设计用于需要惰性气氛以防止产品氧化的各种制程。典型应用包括固化、粘接和热处理。 PN 系列包含一个数字 PID 控制器,易于使用和配置,节省了操作员的时间。它有两个温度范围,可满足您的工艺需求。不锈钢、连续焊接的内部结构非常适合高腐蚀性环境或对内部清洁度要求较高的环境。它具有可调节的再循环空气百叶窗,可进行微调以确保均匀的气流(即使在不同的负载配置下)和一致的产品加热。它还配有一个空气-空气热交换器,可在密封腔内低温运行并快速冷却。 Despatch ...
Despatch Industries
温度: 1,250, 1,350, 1,500 °C
得益于BMI注册专利的旋转流冷却技术,B8_T系列BMI真空炉可用于一般热处理、高温钎焊以及任何敏感淬火处理,可确保淬火均匀一致。 增压5-12bar的炉子可以保证最高要求的冷却速度。这些炉子可配备对流功能,以减少加热时间,同时实现低压均匀热处理,真空回火周期时常伴随真空气体淬火。 根据可选项目,这些设备可适用于钢淬火真空处理(表面不会被氧化)、不锈钢急剧淬火、光亮退火、老化、应力消除、钎焊、煅烧、特殊合金脱气、钢回火、ALLCARB®低压渗碳。 设备全自动化,可重复产出。 BMICRO适合处理小体积载重,而VSE8_T专用于大型载重。 附加选项 加热模式: ...
B.M.I. Fours Industriels
... 转鼓炉--迄今为止最常用的设备,用于熔炼加入盐的严重污染废料。 - 容量(液态铝):10-20 吨 - 回火钢滚道与转鼓本体采用压入式连接,无需维护 - 液压式上开式装料门,可随转鼓旋转 - 气氧燃烧器安装在废气侧,可提高能效 - 旋转驱动装置,每个炉子有两个滚筒,转速可自由调节 - 完整的炉渣处理系统 - 可视轴承温度监控 燃烧器和控制系统的特点: - 先进的气氧燃烧器 - 最佳温度监控 - 通过持续温度控制减少氧化气氛 - 手动或自动输出控制 ...
温度: 1,100 °C
DBC烧结炉 该产品专业用于功率半导体器件,如IGBT模块、GTR模块;功率控制线路及新式功率结构单元;固态继电器及高频开关模块电源;变频器交流无触电开关;汽车电子、航空航天军事技术等方面的结构单元的高温热处理。 技术指标 使用温度RT-1100℃ 炉膛均匀性优于±2℃ 网带运行速度20-150mm/min无级可调 自动升温速率可调升温速率≤2℃/min 氮氧混合气体氧含量20-300pp可调 控温温区8-10温区 网带宽度200mm 二、先进性 氧化气氛均匀、气氛分段可控、温度一致性高(高均匀性)、自动升温可调、安全保护功能齐全、维护操作便捷、节能环保、气氛闭环控制、高温抗变形结构、控温方式独特。
... 工业烧结炉可有效去除金属上的粉末涂层、环氧树脂、油漆、油脂、油、橡胶和其他有机材料。节省清洁成本,延长部件寿命。 可选择液化石油气、天然气、柴油或电力。 烧结炉又称热清洗炉,广泛应用于涂料、纤维、电机和塑料行业。烧结炉热清洗炉设计用于去除各种金属部件(如吊架、机架、挂钩、夹具、夹具)上的油漆、粉末涂料、环氧树脂、油漆、聚氨酯和其他有机或无机化合物。还可用于清洗各种金属部件上的聚合物,例如:模具、挤出模、螺钉、喷嘴、挤出机、热流道、破碎板。 热清洗炉可以高效、安全地清洗附着在涂层喷嘴等金属部件上的化学品。利用聚合物高于 ...
Ecoco Technology Co., Ltd
温度: 700, 950 °C
宽度: 600, 850, 700, 800 mm
高度: 400, 500, 600, 700 mm
... 该热处理线由装卸平台、加热炉系统、淬火炉系统、快速冷却室(淬火除油室和排气)系统、回火炉、卸载风冷室、温度和机械动作控制系统、应急工作站、液压气动系统、大气保护系统和装料盘组成。 该生产线主要用于钢球、铸造件、汽车配件、齿轮等各种材质的标准件的淬火和回火热处理。 特点。 1).该生产线可用于等温正火和回火的淬火处理。 2).可向加热炉内提供保护性气氛,以减少工件的氧化。 3).冷空气、热空气以及不同温度的冷热空气混合,可用于冷却室内的工件。 4).生产线配置有可靠的传动装置,整条生产线设置有PLC编程和全自动控制,具有故障自诊断功能,是一种高可靠性、智能化的自动热处理生产线。 该生产线主要用于钢球、铸造件、汽车配件、齿轮等各种材质的标准件的淬火、回火热处理。 ...
HENAN TIANLI THERMAL EQUIPMENT CO.,LTD
... 每一个无燃烧器或间接燃烧的加热系统都是Epcon的工程团队的最高成就。我们的专长在于先进的热回收方法和工艺加热操作与空气污染控制系统的整合。我们的综合 "烤箱/氧化炉组合 "设计是Epcon的工程专长之一,有几个专利系统在全球多个装置中得到验证。 热回收和定制的工程系统在整个过程中管理气流,以允许无燃烧器或间接燃烧系统,从而减少燃料消耗和运营能源成本。 包括氧化过程中的多级热回收,不仅确保排放达标,而且提高了热效率,在大多数情况下,整个系统的性能相当于一个更可持续的净零操作。我们的团队不仅对产品有深入的了解,而且对行业和应用也有深入的了解,以提供超出预期的优质性能。 在我们的无燃烧器和间接燃烧系统发货之前,Epcon的团队进行了全面的控制测试,根据所需的设定点温度和特定的工艺变量范围进行专门的调整,不仅确保工艺加热设备的性能,而且还确认所需的破坏率效率(DRE)水平,因为工艺VOC被破坏,热回收方法按设计运行。 ...
... 红外线烤箱适用于粉末、溶剂型和水性涂料。 红外线烤箱特别适用于高材料厚度或温度敏感工件。 在涂料干燥中,红外热通常优于传统的空气干燥,因为辐射渗透材料并从内部向外干燥漆膜。 这阻碍了表面上的皮肤或水泡的形成,并加速油漆的干燥。 其结果是辉煌的表面质量。 由于其出色的粉末润湿性,这些干燥机经常被用作粉末搪瓷炉之前的胶凝区。 优点 大幅减少干燥时间 缩短循环时间 节省空间 温度快速增加可能 普遍适用于粉末/溶剂型/水性涂料 ,因为水性涂料的曝水期为 较短 避免皮肤形成 非常好的表面质量 安全, ...
温度: 200 °C
容量: 20, 50, 120 l
... - 适用于敏感产品的适度干燥 - 快速干燥 - 脱气/金属的脱气 - 放气 - 对金属部件进行加热以进行表面处理 - 真空避免了空气的氧化作用 - 聚合真空->无氧化现象 - 连接器制造商的硅胶部件的脱气 - 必须用特殊油填充的高压传感器,以保护传感元件:从空腔中排除空气以填充油(真空) - 气压计的测试/校准 - 凝胶蜡烛的脱气以消除气泡 - 浸泡过的粉末溶胶的脱水处理 应用_空间 空间应用: 当一个卫星在太空中发射时,它的部件将开始脱气。为了避免在观测卫星的情况下出现精密光学器件的污染等问题,我们可以在发射前通过在真空下加热强制脱气。 脱气件: 在表面处理之前,为一级方程式发动机的高精密度脱气件。 XFE ...
温度: 700 °C
宽度: 2.9 m - 5.6 m
高度: 2.8 m - 4.7 m
... 特殊的 热壁回火炉 这种炉子使用一个内部套筒,以确保没有任何污染元素的工艺环境。它还允许在惰性气氛中或在特殊气体冲洗下,或在必要时在氧化过程中使用空气来执行非常规工艺的套件来实施该炉。 处理 回火 消除应力 退火处理 气体氮化处理 气体冲洗 ...
... I.G.M.系列炉子完成了该系列的产品,并因其非常高的热潜力而与众不同,确保了非常高的生产时间和最佳的加热质量。I.G.M.炉有3轨或4轨两种型号,其设计目的是在空间极其有限的情况下也能实现高生产率。热锻行业的演变趋势促进了炉子在温度均匀性和生产速度方面的质量特性的完善。由于采用了先进的温度检测和调节系统,该系列炉子实现了对这些要求的回应。I.G.M.炉子的设计是为了给新一代的压力机提供动力,用于自动冲压一个、两个或四个数字。 根据具体的产品要求,可提供大量的选配件。这些炉子因其极强的使用通用性和传导的简单性而与众不同。设计上允许以最小的整体尺寸实现最大的生产力,这些设备解决了更多和目前的需求,即在生产数量增加的情况下,可用空间的限制。 通过比例调节作用进行温度调节,使温度均匀性达到预设值的+/-0.5%。入口区和中心区用热电偶进行检查;出口区用光学高温计进行检查。通过加热室穹顶上的燃烧器和轨道上的火焰直接加热。轨道站在钢棒上,而不是直接站在耐火材料上;这决定了轨道的传热更均匀:部件的氧化更少,保留石墨特征(如果使用),轨道的弯曲更少,更持久,易于清洁加热室炉膛。 ...
... 炉子 我们的炉子是完全自动化的,具有方便的工具和设计,可完全根据客户的能力和需求进行不同的可控加热区。 我们的设备适用于这些直径为 100、150、200、300 毫米的晶圆类型。 大气炉 Vegatec 设计和制造大气炉及其所有的自动化系统,用于微电子、纳米电子和光伏的实验室和工业。 这些炉是如下; 氧化炉 (湿式氧化和干式氧化) 扩散炉 掺杂炉 退火炉的 一般特点大气炉 易于使用和易于维护由于用户友好的设计 炉腔和悬臂式样品架采用高纯度石英制成, 最多可在 ...
温度: 400 °C - 1,100 °C
... 低压扩散目前被认为是有效提高太阳能电池转换效率的一种有效方法。 低压扩散目前被认为是有效提高太阳能电池转换效率的有效方法。低压扩散/散射氧化退火改善了扩散源的分子自由通路,解决了扩散深度和均匀性的问题;与常压扩散相比,具有生产率高、方阻高、工艺重复性好、源消耗低、清洁环保等显著优点。该设备主要用于晶体硅太阳能电池生产中硅片的扩散掺杂和氧化退火工艺。 主要特点 成熟的大容量工艺、装载和卸载系统:平衡对称设计,提高稳定性; 快速冷却炉体:最新专利技术使炉体温度快速降至所需温度,冷却速度提高 ...
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