压电显微镜

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电子扫描显微镜
电子扫描显微镜
Verios 5 XHR

空间分辨率: 0.7, 1, 0.6 nm

... 具有亚纳米分辨率和高材料对比度的纳米材料的扫描电子显微镜表征。 Verios 5 XHR扫描电子显微镜 Verios 5 XHR扫描电子显微镜在整个1 keV到30 keV的能量范围内提供亚纳米级的分辨率,具有出色的材料对比度。前所未有的自动化水平和易用性使任何经验水平的用户都能获得这种性能。 扫描电子显微镜表征 - 使用UC+单色电子源进行高分辨率纳米材料成像,在1-30千伏范围内具有亚纳米级性能。 - 敏感材料上的高对比度,性能优异,降落能量低至20eV,高灵敏度的柱内和透镜下探测器和信号过滤,实现低剂量操作和最佳对比度选择。 - ...

电子显微镜
电子显微镜
NP6800

重量: 990 kg
宽度: 1,190 mm
高度: 1,800 mm

... 日立 NP6800 是基于 SEM 的专用探测系统,旨在满足 10 纳米及更高设计节点半导体器件的分析需求。 精密压电驱动致动器配备了 X、Y 和 Z 轴探针移动装置,可以非常精确地控制探针,以测量单个 MOS 晶体管的电气特性。 设计理念是创建一个易于使用的探测系统(如光学探测系统),同时通过我们直观的探头操作设计,即使在真空环境下也能保持同样的易操作性。 - 这种基于扫描电子显微镜的探测系统用于分析任何纳米级半导体器件制造过程中可能出现的缺陷和故障。 - NP6800 ...

电子显微镜
电子显微镜
NE4000

... 日立 NE4000 nanoEBAC 是一种基于电子束的探测系统,用于微电子器件互连、材料和元件的电特性分析、EBAC 分析和成像。 电子束吸收电流(EBAC)技术提供了一种快速有效的方法,无需直接探测低层,即可识别互连器件上的开路、高电阻和短路。 EBAC 技术通过电子束穿过电介质层到达低层金属化层,以吸收电子束电流。FESEM 的电子束加速电压可控制穿过介电层的探测深度或穿透水平。在暴露的上层金属化层上放置一个探针,以完成电路并让电子流过互连层。 通过使用双探针和日立专利的差分 ...

光学显微镜
光学显微镜
MIPOS series

... 压电聚焦纳米定位执行器属于 MIPOS 系列,专为微物镜和物镜的超薄调整或调整整个鼻片(MIPOS N100)而设计。 这些致动器的显著特点是其紧凑的占地面积和并行四边形设计,具有卓越的谐振频率。 它们可在光束内实现平行运动,并且易于安装在显微镜上,并且与各种显微镜和其他光学系统兼容。 这种高性价比解决方案,用于显微镜上的纤细调整。 将 MIPOS 系统与显微镜连接起来非常简单,只需通过拧紧方式将 Flex-Adapter 螺纹与显微镜连接,然后用夹紧螺钉将 ...

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