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... 可使用 3 英寸（75 毫米）或 5 英寸（125 毫米）背管直径的插入式和侧面安装式全套组件，长度可达四米，并具有最小的源对源间距，可为紧凑型高产能生产系统提供多个在线阵列。 ONYX-Revolution™ 采用通用、高性价比的磁体设计，具有定制的周转能力，适合任何类型的目标。而且，它采用现成组件设计，成本低、投资长、可靠性高。 Angstrom Sciences 的专利异型磁铁技术可在源和基底之间形成更接近正常的沉积轮廓。改进后的沉积剖面可减少腔室壁上的碎片堆积。 此外，Angstrom ...
Angstrom Sciences, Inc.
... 在 Angstrom Sciences，我们设计、设计和制造世界上最先进、最可靠的磁控溅射阴极。我们为产品质量提供业界最长的 2 年工艺和材料保修服务。 我们还致力于确保您的磁控管在整个使用寿命期间具有最高质量的性能。因此，我们为您在 ONYX® 或其他磁控管组件上遇到的任何紧急情况或维护需求提供全面的维修和改造服务。 -源拆卸 -机械和电气损坏检查 -配合和公差检查 -更换 O 形环 -螺钉更换 -全面清洁 -磁铁检查：封装、清洁和测绘 -重新组装 -测试：真空、电气和水（提供测试表） -更换水管和电线（如有必要） ...
Angstrom Sciences, Inc.
... 旋转磁控管是圆形磁控管的变体，其中的磁铁组围绕中心轴进行机械旋转。这种装置最初是为半导体应用而开发的，能以尽可能小的阴极直径对固定基板进行均匀镀膜。这项技术的其他应用还包括重新沉积在靶面上的材料会在生长的薄膜中产生缺陷的情况；在旋转磁控管中，整个靶面都会被转速在 20 到 600 RPM 之间的磁铁组扫除干净。 Angstrom Sciences 提供一系列旋转磁控管，直径从 4 英寸（100 毫米）到 16 英寸（406 毫米）不等，设计有可调磁铁配置，可实现工艺优化和均匀性增强。我们的磁控管可安装在内部或外部。 旋转式磁控管可在不移动基片的情况下提供出色的均匀性。 ...
Angstrom Sciences, Inc.
... Angstrom Sciences 因其为磁控溅射应用带来的尖端技术而享誉全球。现在，我们已经开发出一种方法，可将您现有的 MRC 型磁控管改装为我们获得专利的异型磁铁设计，从而将 Angstrom Advantage™ 应用于您的工艺中。 经济型解决方案 MRC 磁体改装可提供我们的异型磁体技术的性能优势，而成本大约只有更换整个现有 MRC 组件的三分之一。 -完全封装的磁体 -紊乱的水流 -提高热效率 -快速简便的插入式设计 -无缝集成 -高利用率阵列 ...
Angstrom Sciences, Inc.
... Angstrom Sciences 为几乎所有标准溅射工艺提供最先进的磁控管。但我们知道，每种应用都是不同的。因此，我们开发了一种独特的模块化方法，专门用于满足您的规格要求。 更多能力 Angstrom Sciences 在内部设计、设计、制造和测试磁控管。因此，我们能够保证最高的质量，并控制您的定制项目。 Angstrom Sciences 使用有限元分析 (FEA) 磁体建模来定制磁体轮廓，以满足您的工艺规范。 规格。无论您是需要高速率和高产能、高均匀性和目标利用率，还是需要两者之间的完美平衡，我们都能为您量身定做。 我们都将确保 ...
Angstrom Sciences, Inc.
... 高功率射频磁控溅射阴极可成功应用于研发和生产，前提是在结构上采用特定的设计标准。 圆形高功率射频磁控管可直接冷却，外径为 2 英寸-8 英寸。 由于射频功率在高频率下运行，因此磁控溅射阴极的设计必须能够控制该功率。Angstrom Sciences 的高功率射频磁控管设计用于在目标表面均匀传输射频能量，同时提供低反射功率和射频限制。 高功率射频磁控管有圆形和线性两种配置。 ...
Angstrom Sciences, Inc.
... 我们最大的内部安装端组，SC 可处理高达 4000 mm 的目标，额定功率高达 200 kW 直流或 80 kHz MFAC。 SCI 内部安装端块具有高可靠性和简单易于维护的设计。 单端配置减少了旋转和静态密封件的数量，这是旋转阴极中最常见的失效模式之一。 我们独特的灌水和排水功能可以改善目标冷却和在冲击时全排水目标水。 这种设计消除了端块内部电镀腐蚀的可能性，从而导致漏水和短路。 溅射部件的 SC 端块可安装在任何新的涂层机上，也可轻松替换其他旋转端块或平面系统。 ...
Sputtering Components
... 我们最新的产品 CMC 是 MC 的更薄版本，是我们的中型内部安装端块。 CMC 可处理高达 2500 毫米的目标，额定功率高达 100 kW 直流或 80 kHz MFAC。 SCI 端块具有高可靠性和简单易于维护的设计。 单端配置减少了旋转和静态密封件的数量，这是旋转阴极中最常见的失效模式之一。 我们独特的灌水和排水功能可以改善目标冷却和在冲击时全排水目标水。 该设计消除了端块内部电镀腐蚀的可能性，从而导致漏水和短路。 溅射部件的 CMC 端块可以安装在任何新的涂层机上，也可以轻松取代 ...
Sputtering Components
... TC 系列内部端组采用最紧凑的设计，采用独特的输电技术。 TC 可处理高达 1500 毫米的目标，额定功率为 40 千瓦直流或 80 千赫 MFAC。 SCI 内部安装端块具有高可靠性和简单易于维护的设计。 单端配置减少了旋转和静态密封件的数量，这是旋转阴极中最常见的失效模式之一。 我们独特的灌水和排水功能可以改善目标冷却和在冲击时全排水目标水。 该设计消除了端块内部电镀腐蚀的可能性，从而导致漏水和短路。 溅射组件的 TC 内部安装端块可以安装在任何新的涂层机上，也可以轻松地替换平面系统。 ...
Sputtering Components
... MM 是我们的中等尺寸外部安装端板。 它可以处理高达 2500 毫米（支持）的目标，额定功率高达 100 kW 直流或 80 kHz MFAC。 MM 系列外部安装端块采用与我们的 MC-系列端块相同的专利技术，在紧凑的设计中提供出色的价值、性能和可靠性 特点可 定制的驱动轴长度 紧凑且灵活的设计方 便使用的水封盒获得专利的供电技术 专利的目标注水和排水 简单的设计，减少部件的部件， 磁铁棒外部调节到任何角度 优势 比内 部端块更宽的衬底覆盖范围适合大多数腔室设计。目标更换 高包装密度；350 ...
Sputtering Components
... CM 是我们最紧凑的外部安装端组。 它可以处理高达 1000 毫米的目标，额定功率高达 20 千瓦直流或 80 千赫 MFAC。 CM 外部安装端组结合了高性能和可靠性，结合了非常紧凑和轻量化的设计。 特点 可定制的驱动轴长度 紧凑灵活的设计方 便使用的水封筒 专利的电力输送技术 专利的目标灌水和排水 简单的设计，减少部件 磁铁棒外部调整到任何角 度基板覆盖范围比内部端板 适合大多数腔室设计。 所有公用设施均为外部设 备，并在目标转换期间保持连接高包装密度；220 ...
Sputtering Components
... 借助 Swing CathoDetM 端块，磁铁组可以在独立于旋转目标管的可编程旋转轴中摆动，使其成为显示或 3D 零件涂层的理想系统。 Swing CathoDetM 采用与其他端块相同的专利技术，在紧凑的封装中提供出色的价值、性能和可靠性。 特点设 计用于使用客户可编程的磁铁包摆动运动涂层静态基板可 定制的驱动轴长度 紧凑灵活的外形尺寸 易于访问的水密封盒 简单的设计-更少的部件获得 专利的目标水填充/排水功能 非常适合显示器或 3D 部件涂层， 高填充密度；400 ...
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