双折射测量系统

3 个企业 | 14 个产品
平台入驻

& 任何时间、任何地点都可以与客户联系

平台入驻
{{#pushedProductsPlacement4.length}} {{#each pushedProductsPlacement4}}
{{product.productLabel}}

{{product.productLabel}} {{product.model}}

{{#if product.featureValues}}
{{#each product.featureValues}} {{content}} {{/each}}
{{/if}}
{{#if product.productPrice }} {{#if product.productPrice.price }}

{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{/if}} {{/if}}
{{#if product.activeRequestButton}}
{{/if}}
{{product.productLabel}}
{{product.model}}

{{#each product.specData:i}} {{name}}: {{value}} {{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}} {{/each}}

{{{product.idpText}}}

{{productPushLabel}}
{{#if product.newProduct}}
{{/if}} {{#if product.hasVideo}}
{{/if}} {{#each product.productTagAssociationList}}
{{/each}}
{{/each}} {{/pushedProductsPlacement4.length}}
{{#pushedProductsPlacement5.length}} {{#each pushedProductsPlacement5}}
{{product.productLabel}}

{{product.productLabel}} {{product.model}}

{{#if product.featureValues}}
{{#each product.featureValues}} {{content}} {{/each}}
{{/if}}
{{#if product.productPrice }} {{#if product.productPrice.price }}

{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{/if}} {{/if}}
{{#if product.activeRequestButton}}
{{/if}}
{{product.productLabel}}
{{product.model}}

{{#each product.specData:i}} {{name}}: {{value}} {{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}} {{/each}}

{{{product.idpText}}}

{{productPushLabel}}
{{#if product.newProduct}}
{{/if}} {{#if product.hasVideo}}
{{/if}} {{#each product.productTagAssociationList}}
{{/each}}
{{/each}} {{/pushedProductsPlacement5.length}}
双折射测量系统
双折射测量系统
WPA series

... 用于注塑、光学薄膜等的高量程测量。 通过Monarch监控缓速器,可以捕捉塑料成型产品制造过程中的变化,或对不同的制造条件进行定性/比较。提供来自生产线的数量反馈,WPA系列可以成为一个非常有用的过程控制。 镜头浇口区的延迟会严重影响图像质量和分辨率的损失。在寻找最佳成型条件时,WPA系统可以提供很大的帮助,使透镜浇口区的延迟量尽可能小。 通过透明薄膜,WPA系统实现了对缓速分布进行简单、定量表征的目标。通过调整显示范围,可以识别非常小的不规则性,并对其进行详细描述。轴线方向的微小变化也可以很容易地捕捉到。 ...

双折射测量系统
双折射测量系统
PA series

... 二维双折射测量系统 我们的宽范围双折射测量PA/WPA系列系统提供透明和半透明材料的高速双折射测量,如镜片和其他透明部件,用于残余应力评估,或透明薄膜的相位均匀性评估。 从微观到宏观(~50cm),视场可以适应几乎所有的测量FOV。不管你的主题是什么,我们相信我们有一个适合各种尺寸的系统。 所提供的专用软件提供了诸如改变视场大小和增加高延迟样品的测量范围等选项。提供各种过滤器,如降噪或局部变化增强等,以帮助您的数据分析任务,另外可配置的和多个过滤器可以同时应用。软件分析功能也可用于扩展PA/WPA系统功能,以满足您最苛刻的偏振成像需求。 应用 测量延时和方向,以及在。 - ...

双折射测量系统
双折射测量系统
Exicor® GEN series

... Exicor® GEN5和GEN6系统是建立在Exicor核心的低水平双折射测量技术和精密的自动运动控制元件上的大型样品测量装置。 这些平台提供无与伦比的低水平双折射测量,以支持LCD行业显示相关材料的精确表征(第5代以上补偿膜和玻璃基板等),系统向后兼容早期型号。 系统设计可以扩展到更大的材料,并且可以很容易地适应其他非显示材料的应用,如低科技的薄板材料和商业窗户玻璃。 GEN5系统的可扫描面积为1150毫米x1375毫米,它使用专利的高张力线栅平台,最大限度地扩大样品的可测量面积,同时最大限度地减少样品的下垂和弯曲。 ...

查看全部产品
Hinds Instruments
双折射测量系统
双折射测量系统
Exicor® OIA

... Hinds™ Instruments Exicor® OIA是主要的双折射测量系统,用于评估正常和斜入射角的透镜、平行面光学器件和曲面光学器件。该系统建立在Hinds Instruments获奖的基于Exicor双折射测量技术的光弹性调制器(PEM)上。这个新一代的双折射测量系统为行业提供了分析和开发下一代光刻镜头、镜坯和高价值贵重光学器件的新能力。 该系统利用PEMs来调制光束的偏振状态,并利用先进的检测和解调电子技术来测量光学器件如何改变偏振状态。这导致测量一个偏振状态相对于另一个偏振状态的90°的光延迟。双折射和快轴方向,以及理论上的残余应力,都可以通过这些数据进行评估。 Hinds仪器和Exicor斜入射角技术已被平版印刷透镜毛坯和成品透镜的世界领导者选中,用于评估研究和生产中的光学双折射。我们的系统是没有人可以超越的! 标准功能。 - ...

查看全部产品
Hinds Instruments
双折射测量系统
双折射测量系统
Exicor® PV-Si

... 在硅太阳能电池板的生产过程中,硅晶体中的应力往往在制造过程中很长时间都不会被检测到。Hinds仪器公司开发了一种应力双折射仪器,用于在硅锭被锯成硅片之前对其进行测量,无论是方形还是原生的硅锭。当该仪器被用作质量控制工具时,低质量的硅锭或硅片可以在后续加工成本产生之前被识别出来。此外,该仪器为硅晶体的种植者提供了一个工具,用来提高硅锭的质量,使他们能够生产出更薄的硅片,并降低机械产量损失。 Hinds Instruments的近红外Exicor®双折射测量系统500硅锭是Exicor双折射测量系统家族产品的主力平台的延伸。该系统采用高质量、对称的光弹性调制器、1550纳米激光器和Ge雪崩光电二极管探测器,对光伏和半导体行业中使用的硅材料进行高精度的双折射测量。除了硅以外,蓝宝石、碳化硅、硒化锌、硫化镉等材料也可以用这个系统测量。500硅锭模型坚固耐用,用途广泛,可容纳和测量500毫米长的原始硅锭,最大直径为8英寸。系统设计和直观的自动扫描软件使该产品成为材料改进、研发工作和日常评估原始硅锭以及其他高科技材料的最佳选择。 特点。 在低级别的双折射测量中具有空前的敏感性 同时测量双折射的幅度和角度 精确的可重复性 ...

查看全部产品
Hinds Instruments
双折射测量系统
双折射测量系统
Exicor® 500 AT

... Exicor 500AT是全新的框架设计,取代了Exicor 450AT系统。这个Exicor®双折射测量系统系列的新 "重型升降机 "带来了新的效率和改进的坚固性,以适应更大和更多的样品。该型号是测量光刻应用的厚透镜坯件以及其他大型和重型部件(最大500mm X 500mm和400+mm厚)的理想选择。500AT改进了经过验证的框架和运动控制部件,这些部件是Hinds Instruments Exicor 450AT系统的标志。 新的设计有一个完全向前的简易平台,使样品测量区域完全清除样品三面和上方的所有潜在障碍。较大的平台还允许在批量扫描应用中一次装载多个部件,以及为生产线自动化集成应用提供更清晰的通道。通过在500AT上添加可选的Exicor ...

查看全部产品
Hinds Instruments
双折射测量系统
双折射测量系统
Exicor® 300 AT

... Exicor 300AT是一个全新的框架设计,支持需要较重或大量样品测量的应用。Exicor®双折射测量系统系列的这一入门级高容量系统为实验室和生产环境带来了效率、改进的负载和坚固性。这个型号很适合较大和较重的样品(最大300mm X 300mm,250+mm厚),以及多个小样品的批量评估。 新的设计有一个重型平台,可以支持更重的样品,并且比以前类似尺寸的Exicor系统更能保持平台的平整度。通过在300AT上添加可选的Exicor Zones™软件,系统可以被设置为执行自动程序,单独扫描每个部件,并为每个 ...

查看全部产品
Hinds Instruments
双折射测量系统
双折射测量系统
Exicor® 250 AT

... 250AT是Exicor®双折射测量系统家族产品的升级型号。 这个型号是为了取代过时的Exicor 350AT而开发的,广泛用于重量较轻但较大的样品,如塑料薄膜。 该系统建立在Exicor 150AT的框架上,在保持Exicor 150AT系统的桌面性质的同时,纳入了更大的扫描区域(可达250mm x 250mm)。 这也是大多数客户在选择Exicor ATS(光谱测量)选项以研究不同波长的双折射时选择的系统。 较大的平台尺寸也允许在平台上装载多个小零件,并与可选的Exicor ...

查看全部产品
Hinds Instruments
双折射测量系统
双折射测量系统
Exicor® 150 AT

... 150AT是Exicor®双折射测量系统产品系列中的工作马。 这个系统的用途很广,在生产车间和研发实验室环境中都很出色。 这个型号被广泛用于工业领域,测量诸如光刻网板、DVD坯件、塑料薄膜、镜头坯件、激光晶体、手机显示窗、注塑件和许多其他部件。 台式设计和直观的自动扫描软件使该产品成为日复一日地评估小型部件(最大150毫米x150毫米)的最佳选择。 有两种测量范围可供选择(高灵敏度和扩展范围),该系统很适合满足您的应用的苛刻要求。 可选的高速扫描包使高空间分辨率的扫描(<1毫米的网格间距)成为现实。 ...

查看全部产品
Hinds Instruments
双折射测量系统
双折射测量系统
Exicor® 120 AT

... 新的Exicor® 120AT具有足够的通用性,在生产车间和研发实验室环境中都有出色表现。台式设计和直观的自动扫描软件使该产品成为日复一日地评估小型部件(最大120毫米x100毫米)的理想选择。 标准的高速扫描包,Scan in Motion™或SIM,使高空间分辨率的扫描(<1毫米的网格间距)成为现实。 应用。 应力延缓测量。 塑料薄膜 镜片毛坯 激光晶状体 手机显示窗 特点。 自动的XY平台 双折射参数的二维和三维图形显示 台式设计 先进的数据分析功能包含在用户界面的标准中 ...

查看全部产品
Hinds Instruments
定向测量系统
定向测量系统
Exicor® MT series

查看全部产品
Hinds Instruments
双折射测量系统
双折射测量系统
Exicor® DUV series

... Exicor® DUV和193 DUV系统测量深紫外波长的双折射。 2003年获得 "R&D 100 "奖的Exicor DUV系统是为评估氟化钙(CaF2)透镜材料在157纳米应用波长下的内在双折射而开发的。 随后的Exicor 193 DUV侧重于193纳米光刻系统中使用的各种材料,特别是要求最高质量光学器件的浸入式193纳米光刻系统。 这两个系统都满足了正在推动技术发展的精密光学材料制造商所要求的使用波长的测量原则。 Exicor DUV和193DUV系统是领先的光刻行业光学制造商使用的主要系统,用于在DUV光刻波长(157 ...

查看全部产品
Hinds Instruments
双折射测量系统
双折射测量系统
RDG 4000 TR

... RDG4000 TR是Gilardoni的解决方案,通过 "声学双折射 "来测量铁路车轮的内部残余应力。事实上,这种测量方法显示了超声波的传输速度是如何受制于被测车轮部分的不同应力状态的。 该设备使用了EMAT探头,它的优点是不需要凝结液体。 EMAT探头的标准配置是两个相等的换能器,在两个垂直的平面上产生线性偏振的横向波,所以传输方向是: ■ 一束:水平极化的传播方向与车轮的滚动平面平行; B波束:垂直极化的传播方向垂直于车轮的滚动平面; 对于每个换能器,通过与第一个后壁相关的飞行时间来测量声学双折射。 回声。对于每个测试点,测量冠轮深度旁边的圆周应力的平均值。 EMAT探头可以通过一个机械支架沿径向扫描,该支架可以很容易地放在轮子上,并用两个磁铁锁定;扫描允许从位于径向扫描的不同点收集数据。探头支架的扫描由运行在同一台电脑上的SW程序管理。残余应力是根据两个不同参考平面上剪切波速度的变化(如果有的话)来测量的。如果速度变化可以忽略不计,那么残余应力就近乎不重要。 ...

平台入驻

& 任何时间、任何地点都可以与客户联系

平台入驻