等离子发生器

... Arcojet® PG 051P 用于处理较小塑料部件，特别是挤出生产线中的塑料型材、注塑部件以及粘接和印刷前的杯子和管材。 治疗速度可达15米/分钟。 Arcojet 装置包括一个不需要接地反电极的自由辐射电极。 发电机产生高压电弧放电，通过气流从电极转移到待处理的表面上。 以这种方式产生的等离子体用于激活塑料表面，以便印刷油墨，油漆，粘合剂等能够粘合。 根据安装限制，可提供不同的头部设计。 该装置可在循环控制模式下或手动使用。 由于建议在等离子预处理中保持与基材表面的距离恒定，因此我们可以提供带有特殊绝缘手柄的导向滚子，用于手动操作。 ...

... Tru...sma 双极系列 4000 (G2.1) 工艺电源专为使用 PVD、PECVD 和反应溅射工艺的等离子辅助镀膜而设计。凭借灵活可变的输出信号和先进的电弧管理，它们在太阳能电池和半导体制造、装饰层和耐磨层沉积以及建筑玻璃镀膜方面都能提供出色的效果。 极低的电弧能量 全数字化电弧管理可实现最高的镀膜质量和生产率。 可配置的波形 通过改变输出信号，可轻松适应各种工艺。 一台发生器，多种应用 直流、脉冲直流和双极：多种设置，节省成本。 集成水冷却器 无需外部组件，因此只需很小的空间。 ...

... 作为直流溅射发生器的替代产品，Tru...sma 高脉冲系列 4000 (G2) 发生器无需改动即可用于现有的磁控管系统。它们可提供高度耐腐蚀和耐磨的硬质材料涂层，因此是高功率脉冲磁控溅射应用的首选。 无可挑剔的涂层效果 无可挑剔的峰值功率高达 4 兆瓦，可产生具有高离子通量的极高等离子体密度。 可灵活使用 与现有阴极系统和工艺条件的简单匹配可实现最佳的设备集成。 HiPIMS 应用的首选 作为脉冲 PVD 溅射工艺的最新发展，HiPIMS 可提供特别耐腐蚀和耐磨的硬质材料涂层。 适用于各种应用 也可用于直流模式，无需额外的直流发生器。 ...

... 风冷式射频发生器 Tru...sma RF 1001 Air 可提供高达 1000 瓦的高精度、可重复的射频能量，分辨率极高（增量为 100 mW），因此适用于各种等离子应用。无论是制造半导体、太阳能电池还是显示器，TRUMPF Hüttinger 的专利技术都能通过现代化的工艺功能确保最高的可靠性和最佳的工艺效果。 智能自动频率调整 保证最佳和快速的频率调整，从而实现发生器和火柴盒之间的最佳互动。 高精度电弧管理 高要求和新工艺的安全运行可确保您的产品得到保护。 多级脉冲 对脉冲形状进行多级灵活控制，以改善现代等离子工艺的加工效果。 即插即用 可灵活使用和更换发生器，以应对工艺变更或改造。 稳定的等离子工艺 已获专利的 ...

... 表面涂层或结构化的决定性因素是稳定且可重复的等离子电流供应。Tru...sma 射频系列 1000 / 3000 (G2/13) 的射频发生器采用最先进的功率电子装置，为此提供了最佳条件。稳定的输出功率和高控制精度保证了在保持高生产率的同时获得最佳效果。 高精确度和可重复性 CombineLine 技术：真正的 50 欧姆输出阻抗带来最佳工艺功率。 不受射频电缆长度的影响 不再需要调整电缆长度，这在射频领域绝对是一项创新。 坚固、安全 CombineLine ...

... Tru...sma VHF 3000 系列发电机基于创新的平台概念，可实现最高水平的功率密度，满足最苛刻的工艺要求。模块化和纯水冷式结构使输出功率最高可达 80 千瓦。这些结构紧凑的甚高频发生器还具有极高的成本效益和坚固耐用的设计。 精确快速的任意脉冲形状 这种设计为目前的单级和多级脉冲提供了最佳的等离子过程控制。 最短斜坡时间 < 150 ns 这意味着可以极其灵活地控制发生器的点火行为。 智能自动频率调整 自动频率调整可实现电源箱与火柴盒之间的最佳互动。 可靠而精密的过程控制 高度精确的数字频率调制带来卓越、可重复的过程结果。 不受电缆长度的影响 改变工艺时无需调整射频电缆的长度，从而缩短了设置时间。 坚固的设计 采用 ...

... Tru...sma DC 系列 4000 (G2) 是专为重型材料的反应性直流溅射而开发的。这种采用脉冲直流工作的发生器在要求最高镀膜质量和生产率的关键 PVD 和 PECVD 工艺中得到了充分验证。紧凑型直流工艺电源可在脉冲和偏压模式下使用--一个外壳内有两个设备！ 高镀膜质量和生产率 数字信号处理保证了稳定的工艺和最小的电弧相关时间损失。 即使在关键工艺中也能获得最佳效果 快速电弧处理与直流脉冲技术相结合，最大程度地减少了对基材的损坏。 工艺调整简单 频率范围广，反向电压可调。 设计紧凑、坚固耐用 集成式冷却器可节省空间并降低维护成本 ...

... Tru...sma Arc 3000 系列产品是粗糙工业环境中电弧阴极工艺的关键部件。这些发生器在硬质材料和装饰涂层方面表现尤为突出。此外，它们还是众多高功率应用（如离子注入和具有类似要求的直流应用）的选定能源。 硬质材料涂层的理想选择 先进的分析程序和数字反馈改善了过程控制。 电弧阴极工艺的理想选择 通过并联多个发生器实现高电流强度和功率。 设计紧凑 集成式空气冷却系统可优化宝贵空间的利用。 未来装备 采用多种接口（如模拟、ProfiBUS、RS232/485），系统集成简单。 ...

... 有了这些射频发生器，Tru...sma RF 3000 系列因其坚固的设计和高效率而脱颖而出，您大可放心。这意味着它最适合用于稳定的可重现等离子工艺，如半导体、光伏电池或平板显示器生产过程中使用的等离子工艺。这些发生器已在世界各地安装了数千台，可确保高水平的生产率和出色的工艺效果。 效率和成本效益 效率高达 80%，使能源成本最多可降低 50%。 出色的射频弧管理 即使是要求苛刻的新工艺也能安全运行。 极其坚固耐用，工艺稳定性高 CombineLine 技术：在不匹配的情况下提供可靠的反射功率保护。 最大灵活性 连续或脉冲功率输出适用于各种应用。 ...

... 新型 Tru...sma Match Series 1000 (G2/13) 配电箱是通快胡廷格射频发生器的理想补充。其智能匹配算法和用于过程监控的数字控制平台提供了一个全面的解决方案，其中所有组件都能以最佳方式协同工作，这就是通快射频系统。 智能匹配算法 快速、稳定、可重复的阻抗匹配至 50 欧姆，即使在关键工艺中也是如此。 整个系统的最佳互动 渐进式软件和改进的信号发生器与匹配盒之间的通信。 实时测量射频功率 对火柴盒和负载阻抗的每一次变化进行快速系统跟踪。 闭环控制 过程参数的最佳监控以及早期电弧检测。 用户友好的过程监控 图形用户界面和有效工具（史密斯图、实时示波器）。 ...

... Tru...sma 系列 MF 7000 (G2) 可让您随时掌控工艺流程：凭借出色的电弧管理和点火性能，这些发生器非常适合作为双磁控溅射过程中大面积镀膜和高要求反应过程的电源。发电机的峰值效率超过 90%，冷却水管理特别高效，因此运行成本极低。 最高的镀膜质量和生产率 即使在最困难的反应过程中，也能获得出色的效果和高镀膜率。 最高效率 峰值效率超过 90%，运行效率超过 80%。 在任何环境条件下都能稳定供电 即使在冷却水温度高和压差低的情况下也能可靠运行。 可在全球范围内使用 供电电压可变，无需技术调整。 ...

FG5001等离子发生器是5000系列发生器的基本型号。它最主要的特点是紧凑型设计，这样可以在使用或者在集成时节省空间。 在这个等级的发生器中，首次实现了供电自动变压稳压设计。此系列配备有最先进的 IGBT 半导体放大器，性能极高，并具有精确的等离子功率调节和控制功能。FG5001 等离子发生器可驱动最多两把等离子体喷枪。 典型应用： 集成在成套系统中，例如，集成在移印刷系统中 低污染环境下的简单应用 Plasmatreat实验室系统，带有可调速直线滑台及固定或旋转式等离子单喷枪， Openair® ...

等离子发生器既为Openair等离子系统提供能量，又通过由Plasmatreat公司开发的工艺监控技术实现了对运行状态的监控。这样就能够在非常短的反应时间里完成快速的工艺管理。此外，如果等离子喷枪存在问题，也能立刻通过各种内置传感器检测出来。 图形显示器清晰地显示了有关发生器、等离子喷枪的运行状态以及维护计划等信息。 强大的等离子发生器可以同时运行多达四把（FG5002）或八把（FG5005）等离子喷枪。 典型应用 可在生产系统中集成使用 可在苛刻的运行环境中多班制高负荷运行 不同领域的工业应用 需要两把以上等离子喷枪的应用场合 FG5002/5005 ...

5000 系列发生器结合了最新半导体技术和传感器技术，性能优异，十分便于使用。它可对等离子放电室内的压力，电流、电压和频率等进行集成式模拟监控，并可对等离子体发出的光进行分析，从而获得最高程度的工艺可靠性。 设备采用用户界面友好的触摸屏操控，和上下游设备进行控制联动所需的通信模块集成在内。 典型应用 集成到成套生产系统中 可在苛刻的运行环境中多班制高负荷运行 需要集成工艺监控及全面系统通讯功能的工业应用 支持机器人系统的集成 FG5002/5005 ...

Plasmatreater AS400是一套最为理想的实验室工作系统。要在实验室中确定等离子清洗、等离子活化及纳米涂层（等离子聚合）的参数，AS400系统是最佳的选择。 为了实现工艺的可复制性，需要在与标准的生产条件类似的工况下对特定工艺所需的等离子参数和要求达到的材料性质进行评估。各种工艺参数，比如速度或处理距离等会由AS400自带的计算机系统进行分析并记录。 作为可选项，AS400可以加装诸如绕线器等辅助设备，用于在纺织品领域的实验，或者可以包括辊系统，用于进行带状物质，比如织物或薄膜的实验。 这套系统的关键价值在于，无需干扰正在进行生产的等离子系统，就可以完成模拟实际生产状况的工艺测试。 应用领域： 粘接，喷漆，印刷前的等离子处理 超精细清洗 高分子料的表面活化 在表面形成疏水聚合物涂层(防腐保护,抗划伤) 在表面形成亲水聚合物涂层(粘接促进) 形成阻隔涂层

... 随着半导体行业加速走向新的拐点，eVerest™ 射频发生器满足了变革性等离子体控制的需求。其可配置的多级脉冲可实现瞬时或用户定义的过渡定时。此外，基于模型的高速、高精度频率调整和宽频率扫描范围可提供更高的过程稳定性和控制能力。这些功能以及更快的设定点响应、脉动状态开始时的受控过冲和先进的 PowerInsight by Advanced Energy™ 物联网智能，为下一个技术节点的工艺创新提供了动力。 - 全射频传输系统、多种匹配解决方案选项和智能同步 - 在可编程多级脉冲曲线内实现速度和控制 - ...

... 多功能 Apex® 射频发生器和功率传输系统系列采用适合腔室安装的紧凑型模块化设计。利用先进的射频转换技术，Apex 射频发生器和功率传输系统提高了产品和工艺的可靠性。高密度功率能力使其成为先进等离子工艺的理想选择。各种通信模型和可配置功能使您能够定制您的平台并探索集成方法。无需定制发生器的交付周期。 - 流线型设计中的高功率密度 - 板载腔体安装、工具框架安装、机架安装和鞋盒选项 - 宽带控制回路 - 可选脉冲控制 - 高速电弧管理 - 可随时集成工艺工具，提高灵活性 - ...

... 用于新兴等离子体应用的多级脉冲和脉冲波形控制 在脉冲射频产品中获得最广泛的功能集。Paramount Plus 提供精确的射频调节、复杂的脉冲操作和先进的数据采集功能。Paramount Plus 设计用于覆盖广泛的射频能量范围（频率为 1 至 60 MHz，功率为 1.5 至 15 kW），可提供您所需的可重复性和可靠性。 Paramount® Plus 脉冲射频电源 具有多级脉冲、脉冲波形控制以及脉冲射频电源中最广泛的 Paramount® Plus 具有多级脉冲、脉冲波形控制和脉冲射频产品中最广泛的功能集。 平台使您能够突破工艺创新的界限，并 提供市场上的最佳价值。出色的等离子稳定性、 出色的等离子稳定性、精确的射频调节、复杂的脉冲操作和先进的 数据采集提供了下一代节点所需的极高等离子体控制能力。 下一代节点所需的等离子体控制能力。 用户受益 精确的射频和脉冲控制 增强等离子稳定性和过程可重复性 快速响应等离子体变化 灵活性和适应性强，适用于不断进步的制造技术 半导体应用 PVD PECVD 蚀刻 ...

... 以操作灵活性为新重点，推进您的工艺开发。Paramount® HF 射频发生器功率范围宽，支持多种集成方案，配备标准串行/模拟接口和其他可选通信接口。Paramount HF 实现了高纵横比器件所需的高等离子密度和离子能量，并加快了下一节点半导体加工工具的工艺流程。派拉蒙平台的数字架构可提供精确的功率管理，并简化新功能的集成--无需前置时间或硬件变更。通过对等离子体变化的实时检测，实现了高功率输出和可重复的性能。内部保护限值有助于可靠运行。 - 全数字控制 - ...