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... Satisloh的新一代镜头镀膜机，为中量级实验室的AR（抗反射）和/或镜面镜头镀膜提供了最快的盒式镀膜机。 在中型镀膜机中具有巨大的镀膜性能 MC-380-X-2每小时可生产82片镜片。 该箱式镀膜机通过热蒸发工艺（PVD）为有机和矿物眼镜片提供广泛的抗反射（AR）和/或镜面镀膜。 矿物镜片的腔内着色也可以应用。 MC-380-X-2支持在一次运行中实现多层镀膜功能。 它为不同的容量要求和各种镜头直径尺寸提供了广泛的镜头支架。3区圆顶、全圆顶、无环全圆顶、7区翻转和用于双面加工的快速翻转系统（从区圆顶到翻转镜架的简单和快速转换） 同类产品中最快的盒式镀膜机 几个特点使MC-380-X-2成为中型镀膜机中最快的镀膜机。只需提及其中的几个。 旋转式干泵（可选）的泵送能力提高了53%。 更大的迈斯纳疏水阀，容量增加了30%，加快了吸湿率。 超快的通风选项与新的闸阀相结合，大大减少了门到门的处理时间。 双重热源允许通过释放EBG口袋中的两个位置来蒸发第二种物质。 Rx镜片的镀膜工艺 抗静电宽带AR--终极、高级、保护蓝、保护紫外线、保护完整 宽带AR ...
... 380-PO光学镀膜系统提供了宝贵的工艺灵活性，可以在精密光学器件上沉积广泛的薄膜涂层类型。它提供一致的、复杂的薄膜堆，具有直观和简单的工艺设置，以及快速的生产周期吞吐量。 中小型光学器件生产的顶级设备 380-PO完美地证明了伟大的技术设备可以很容易地与低拥有成本结合起来。该箱式镀膜机可以配备圆顶、翻转或其他基片支架选项，提供了极大的工艺灵活性。快速的循环时间使得380-PO成为所有中、小型光学产品生产需求的完美选择。可选的干式泵送使其也适用于UV/DUV镀膜。 ...
... R2R 卷筒铝真空金属化机具有众多优势，包括生产速度快、对金属层厚度和均匀性的控制极佳，以及能够加工多种柔性基材。 我们为 ZnS 卷对卷真空金属化机提供交钥匙镀膜解决方案，我们知道如何进行技术转移。R2R 卷材真空金属化机通常由以下部件组成： 1.开卷机：该工艺从一卷基底材料开始，将其展开并送入机器。 清洁部分：基材通过一个清洁部分，以去除可能影响金属化涂层质量的任何杂质或颗粒。 2.预处理：在这一阶段，基材可能要经过电晕处理、火焰处理或涂刷底漆等预处理工序。这些处理可增强铝层与基材的附着力。 3.金属化室：R2R ...
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... 电子 Cooper 溅射系统 / ...电子芯片直接镀铜溅射设备 库柏磁控溅射镀膜设备在...电子设备上的应用 DPC 工艺 - 直接镀铜是应用于 LED / 半导体 / 电子工业的先进镀膜技术。其中一个典型应用是陶瓷辐射基板。 与传统的制造方法相比，DPC 工艺采用 PVD 真空溅射技术在 Al2O3、AlN、Si、玻璃基板上沉积库珀导电膜： DBC LTCC HTCC 的特点： 1.生产成本更低。 2.出色的热管理和传热性能 3.精确的对齐和图案设计 4.电路密度高 5.良好的附着性和可焊性 皇家技术团队协助客户利用 ...
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... 汽车配件 ABS 阅读灯罩边 PVD 真空镀膜机，汽车标志广告牌真空镀铬 为何选择我们？ 先进的生产设备（铣削、焊接、切割、真空检漏）与标准化的生产流程和严格的测试相结合，使皇家科技能够生产出高质量、高可靠性和低成本的镀膜系统。 质量、服务和准时交货是皇家科技的核心经营原则。将简单部件公开外包给专业制造商的战略使我们能够集中精力进行关键零部件的研发和制造。 严格的质量控制政策和对合格供应商的严格选择，确保皇家科技的客户以最实惠的价格获得最先进、最优质的设备。 铝热蒸发涂层系统 摘要：RTEP6638 ...
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NEXUS DLC-X 类钻碳系统 超硬抗腐蚀 TFMH 涂层薄膜技术 Veeco 的 NEXUS DLC-X 系统可沉积致密、一致且可重复的类钻碳 (DLC) 薄膜以获得耐久的 TFMH 滑片涂层和放置平台。Nexus DLC-X 拥有行业领先的适合生产的脉冲滤波阴极电弧源，可实现小于 20A 的涂层厚度，与上几代产品相比，可支持改进的步进范围，实现更好的工艺产出。 脉冲滤波阴极电弧提供了优异的均匀度、可重复性和薄膜硬度 长移距、低压 PVD 提供了致密的、无针孔硅种子层 支持反应 ...
VEECO
... 缠绕式磁控溅射/蒸发镀膜设备 高真空卷对卷镀膜机集高效率、高稳定性和高性价比于一身。它适用于各种玻璃基材和柔性基材的行业，如电子纸、柔性电路板、太阳能薄膜电池、阻水阻氧膜、光学镀膜触摸板。还可应用于烟包直接涂布纸、激光、防伪、高级烫金材料、高端彩印包装涂层、全兼容介质涂层、隔热节能膜、屏蔽膜、导电膜等薄膜。可加工的材料包括。ABS、PS、PP、PC、PVC、TPU、尼龙、陶瓷、金属等。 ...
Powertech
... 可以集成到现有的MBRAUN手套箱中（通过前室）。 - 适用于高达50 x 50毫米晶圆的基片 - 紧凑的设计 - 经济的解决方案 - 交付时间短 - 安装快速、简便 - 在现有的手套箱中易于改装 - OLEDs/有机电子 - OPVs ...
Mbraun
... Minilock ALD 系统旨在使研究人员能够通过热和等离子体增强模式种植原子层沉积膜，其尺寸可达 300mm 的基板。 小占地面积和坚固的设计使其成为研究和试点生产线环境的理想选择。 偏置电极是标准的，可用于改变薄膜性能。 通过保持核心组件不变，可以很容易地扩展到生产集群平台。 为各种材料开发了标准工艺。 这有超过 25 年的快速工艺开发经验。 系统特点： PLC 和触摸屏控制 电感耦合等离子源 (ICP) 偏置电极 近耦合前驱体输送 (最大 8) 50° ...
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