平版印刷系统

... 点阵式电子束光刻系统 JBX-8100FS 实现了高吞吐量、小占地面积和省电。 特点 占地面积小 标准系统所需面积为 4.9 米（宽）x 3.7 米（深）x 2.6 米（高），比传统系统小得多。 功耗低 正常运行所需的功率约为 3 千伏安，仅为传统系统的 1/3。 高吞吐量 该系统有两种曝光模式：高分辨率模式和高吞吐量模式，支持从超细加工到中小型生产的不同类型的图案化。它最大限度地减少了曝光期间的空闲时间，同时将最大扫描速度提高了 1.25 至 2.5 ...

... JetStep W2300系统是为所有主要的先进包装工艺设计的。 产品概述 JetStep W2300系统是专门为迎接先进封装挑战而设计的。随着半导体先进封装工艺的分辨率、覆盖率和更多的技术规格变得更加严格和复杂，满足光刻要求成为一项挑战。凭借专门的大场面光学器件和关键的系统优势，该系统在不限制分辨率和覆盖率的情况下提供最大的产量。 应用 - 扇出式晶圆级封装(FOWLP) - 晶圆级芯片规模封装（WLCSP） - 通硅孔(TSV) - 插件 - MEMS - ...

AP200/300 投影步进器 AP200/300 系列光刻系统建立在 Veeco 的可定制 Unity Platform™ 上，可提供卓越的覆盖、分辨率和侧壁剖面性能，并能实现高度自动化和经济高效的制造。这些系统特别适用于铜柱，扇出，硅通孔 (TSV) 和硅中介层应用。此外，该平台还有许多特定于应用的产品功能，以便使下一代封装技术（如 Veeco 屡获殊荣的双面定位 (DSA) 系统）在全球范围内广泛应用于批量生产。 主要特性 2 微米分辨率宽带投影镜头，专为先进封装应用设计 曝光波长从 ...

... 逐步重复的纳米压印光刻系统 阶梯式重复纳米压印光刻技术用于高效的母版制造 EVG770 NT是一个多功能的平台，用于步进重复(S&R)纳米压印光刻技术，以实现高效的母版制造或直接在基底上形成复杂结构的图案。这种方法允许从30平方厘米以下的小模具中均匀复制模板。S&R工艺允许在大面积上多次复制这些模具，最高可达2代面板大小的基材。与金刚石车削或直写方法相结合，S&R压印经常被用来有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。因此，它通常是大批量制造增强现实波导、光学传感器、衍射光学、元表面或生物医学设备的重要先决条件。 EVG770 ...

Nanoscribe的Quantum X是全球首创双光子灰度无掩模光刻系统，适用于制造微光学衍射以及折射元件。 体验全新Quantum X 全新的Nanoscribe Quantum X系统适用于工业生产中所需手板和模具的定制化精细加工。该无掩模光刻系统颠覆了自由形状的微透镜、微透镜阵列和多级衍射光学元件的传统制作工艺。 全球首个双光子灰度光刻(2GL®)系统将具有卓越性能的灰度光刻与Nanoscribe精确灵动的双光子聚合技术结合起来。 Quantum ...

... K&S 光刻通过开发专用解决方案，大幅降低拥有成本，为您带来了高级包装光刻的突破。 LiteQ 500 投影步进器的主要特点和优势 最高吞 吐量提高 2 倍的拥有成本 激光基于光源 创新光学设计 高速晶圆处理 模块化系统架构 差异化软件 ...