脉冲磁电管

... Angstrom Sciences 的圆形磁控管已被公认为溅射行业的标准，因为它具有 Angstrom Advantage™ 和许多其他设计特点，在配置和工艺性能方面几乎提供了无限的可能性。 其紧凑的设计使我们的圆磁控管成为任何新应用或改装应用的理想选择，包括用于最小真空室的最复杂的簇组件。 低阻抗磁头兼容射频、直流、中频直流、脉冲直流、HiPIMS 和微波功率。 我们使用 ISO NW 标准接头以及 Conflat® 金属密封法兰。所有公用设施均保持在大气压下，并通过标准 ...

... 随着越来越多的行业发现磁控溅射的速度、可控性和底线优势，Angstrom Sciences 正在开发各种工具，以最大限度地提高这些大型、快速制造工艺的产量。 更广泛的解决方案 对于需要在极宽的基底上进行镀膜或需要实现极高吞吐量的用户，线性磁控管提供了完美的解决方案。 专利优势 Angstrom Sciences 的线性磁控管采用我们获得专利的全封装异型钕铁硼稀土磁铁和湍流水流，可提供无与伦比的性能。 标准配件 我们使用 ISO NW 标准配件以及 Conflat® ...

... 高功率脉冲磁控溅射或 HiPIMS 是脉冲溅射技术的最新进展，它利用能量极高、持续时间极短的脉冲产生等离子体放电，使大部分溅射原子电离。电离后的通量可以被引导，从而增强对涂层特性的控制。 Angstrom Sciences 已经开发出一系列溅射阴极，能够承受超过 1500 瓦特/平方英寸的极端功率密度，适用于连续长时间的生产应用。Angstrom Sciences 的高脉冲功率脉冲磁控溅射阴极在阳极体和安装法兰中加入了额外的冷却通道，与我们获得专利的湍流目标冷却一起，在工艺操作过程中保持最佳的冷却效果。 其他特点包括被动和主动磁体阵列，可在靶材寿命期间保持靶材表面的场强一致，这对 ...

... Angstrom Sciences 使用有限元分析 (FEA) 磁体建模来定制磁体轮廓，以满足您的工艺规范。 规格。无论您是需要高速率和高产能、高均匀性和目标利用率，还是需要两者之间的完美平衡，我们都将确保 Angstrom Advantage™ 能够优化您的工艺。 我们都将确保 Angstrom Advantage™ 针对您的工艺进行优化。 无论您是需要定制磁控管、安装硬件、法兰、快门组件、气体歧管，还是需要完整的真空室，Angstrom Sciences 都能满足您的需求。 真空室，Angstrom ...

... 间接冷却磁控管在圆形阴极冷却水和溅射靶之间有一个中间壁。这种中间壁可形成永久性的水-真空密封，防止靶材被 "溅射穿 "而发生泄漏。 Angstrom Sciences 的 1 英寸至 4 英寸（25 毫米至 100 毫米）间接冷却式圆形磁控管采用螺纹式靶夹和阳极屏蔽，可调节以适应不同厚度的溅射靶。螺纹设计上的靶件更换快捷方便，无需辅助工具或装置。 此外，螺纹式靶夹和阳极罩还能形成一个紧凑的圆形磁控管头。这样，Angstrom Sciences 的圆形磁控管就可以安装在狭小的真空室中，与传统磁控管相比，它可以溅射更大表面积的基片。 间接冷却磁控管推荐用于低功率应用，是研究和开发应用的理想选择。 有关间接冷却磁控管的更多信息，请致电 ...

... Angstrom Sciences 因其为磁控溅射应用带来的尖端技术而享誉全球。现在，我们已经开发出一种方法，可将您现有的 MRC 型磁控管改装为我们获得专利的异型磁铁设计，从而将 Angstrom Advantage™ 应用于您的工艺中。 经济型解决方案 MRC 磁体改装可提供我们的异型磁体技术的性能优势，而成本大约只有更换整个现有 MRC 组件的三分之一。 -完全封装的磁体 -紊乱的水流 -提高热效率 -快速简便的插入式设计 -无缝集成 -高利用率阵列 ...

... Angstrom Sciences 为几乎所有标准溅射工艺提供最先进的磁控管。但我们知道，每种应用都是不同的。因此，我们开发了一种独特的模块化方法，专门用于满足您的规格要求。 更多能力 Angstrom Sciences 在内部设计、设计、制造和测试磁控管。因此，我们能够保证最高的质量，并控制您的定制项目。 Angstrom Sciences 使用有限元分析 (FEA) 磁体建模来定制磁体轮廓，以满足您的工艺规范。 规格。无论您是需要高速率和高产能、高均匀性和目标利用率，还是需要两者之间的完美平衡，我们都能为您量身定做。 我们都将确保 ...