离子源

... 低流量分离领域的一场革命，保持了坚固性和敏感性的完美平衡 基于值得信赖的Turbo V源设计，并采用手指紧固的配件，无需工具即可安装 新的探针确保稳定的液滴形成，实现高质量的喷雾，并为多种流量范围进行了优化： 微型：1 - 10, 10 - 50, 50 - 200 µL/min 纳米级：100 - 1000 nL/min 在几分钟内即可在纳米流和微流之间切换 切换到高灵敏度的低流量分析再容易不过了 您在传统分析流中所期待的坚固性和简单性现在可以在您的高灵敏度微流和纳流分析中得到体验。 我们通过标准尺寸的手指紧固装置和新的单键源界面使之成为可能--使您可以毫不费力地连接您的LC、色谱柱和质谱。OptiFlow源配备了智能探针识别技术，可以预设系统源设置和探针位置，提供最佳的喷雾，并消除了所有的手动调整。 易于使用，具有尖端功能的低流量源技术 为您的业绩提供动力的创新技术 OptiFlow源采用了增强的气流动力学和IonDrive加热器来提高离子的产生和稳定性，有助于确保多个系统和多个用户的结果的一致性。对纳米流和微流进行了广泛的实验，以找到最佳的探头位置、突起和典型的气体和温度设置。 ...

... 基于环境电晕放电技术的创新型离子源。 它可以直接测量液体和固体，也可以实时测量气体，这在以前是非常困难的。 ChemZo，您应对这些挑战的解决方案： - 耗时的样品制备，如稀释或溶剂萃取。 - 感官评估与仪器测量之间存在差异。 - 可视化芳香化合物的持续时间。 - 测量样品加热过程中的香味释放。 - 快速分析原料或树脂中的添加剂。 - 快速识别异物污染。 ChemZo 有两种测量模式： 模式 1.使用温度梯度装置的固体测量模式 ChemZo使用温度梯度装置，可将样品从室温加热至600°C，从而实现不同温度范围内的成分检测。这样就可以在一次测量中获得从热解吸到热分解的光谱信息。这种模式对于塑料容器等材料分析尤为有效。 成分按沸点顺序蒸发，使数据处理更加简便。 高沸点化合物可以可靠地汽化。 - ...

纳升流离子源 CaptiveSpray 2 和 CaptiveSpray Ultra 作为捕集离子淌度谱（ TIMS ）的核心，具有无与伦比的性能和操作简便性。 卓越的性能 CaptiveSpray 2 和 CaptiveSpray Ultra 独特设计，使纳升流灵敏度触手可得。 强大的兼容性 与所有 PepSep 色谱柱、IonOpticks 色谱柱以及自制柱无缝兼容。 操作简便性新标准 得益于其 “ on-off ” 的拆装设计，几秒内即可轻松完成安装。 完美的精准性 零死体积连接和精确的 ...

... 规格 能量范围 400 至 5 千伏 (10 千伏可选) 最大光束电流 > 10 μA @ 5 千伏 > 100 纳 @ 15 千伏 (10 千伏可选) 光束直径介于 300 微米至 2′′ @ 5 千伏 整体端口对准器 是 阴极 氧化钇涂层钨 (可选) 铱灯丝 工作距离 30 毫米-300 毫米 插入深度 173 毫米 在工作过程中 5x10-7 毫巴-1x10-8mbar 安装法兰 CF 35/2′ OD 电子接口 TCP/IP 软件控制 实验室™-基于软件 ...

SOLUS DC 离子源控制器 适用于 Veeco DC 有栅离子源的业界领先的功率交付系统 Veeco 的 SOLUS™ DC 离子源控制器拥有最先进的精密控制系统设计，可以为采用各类工艺的离子源操作提供可靠而稳定的功率。通过整合功率模块和带有比率调节功能的气体流量控制，可以在最苛刻的工艺环境中实现最佳的离子源控制能力和性能。 易于使用的单键操作 提供手动、自动和远程操作选项 一流的控制能力，可以提高等离子源的稳定性 集成且可配置的气体流量控制 可定制的控制设置，实现量身定做的源操作 省时的故障排除功能 实用的事件和状态记录屏幕

卓越高效 - 技术性能出色 ION 300F X射线系统精密准确，其经过优化的几何X射线束专为扫描应用量身定制。本系统配备高质量金属陶瓷X射线管芯，既能确保检测精确性，又延长了产品的使用寿命。ION 300F扇束X射线系统有风冷和风冷/水冷组合两种类型可选，完美适用于各种气候环境作业。 易于集成 - 紧凑轻便 ION 300F X射线系统结构紧凑，质量轻便，配有独立X射线管头和控制器，可从任意方向进行安装，因此易于集成。其对准功能可确保与其他系统组件的平稳精确对准，内置安全设置支持与任何整体系统安全设计的轻松集成。操作人员无需专门培训，即可更换ION ...

... Denton的Endeavor射频离子源的设计是在没有灯丝的情况下运行的，并使用一个单一的提取网格。由于从源头提取的电子流量足以中和离子束的空间电荷并消除腔内的空间电荷电弧，这种射频离子源不需要辅助的电子中和器，如热丝或空心阴极。 研究和制造的。 光学设备 光电子学 磁和微电子器件 产生和控制具有特定能量、化学反应性、电流密度和轨迹的离子物种的能力，使离子源成为创造精密薄膜和表面的有效工具。致密化、光学传输、临界厚度均匀性、光滑的界面、改进的粘附性和垂直侧壁是离子源在薄膜沉积过程中实现的一些受欢迎的材料特性。 Denton提供我们内部开发的CC-106离子源。CC-106是一个宽束冷阴极直流源，设计用于离子辅助沉积和预清洁过程，使用氧气或氩气。 我们现在提供我们新的无灯丝Endeavor射频离子源，目前可用于新系统。 ...

... 用于超高压表面分析的5keV铯离子枪 IG5C的特点是低功率、高亮度的表面电离源与一个紧凑的离子柱相配合，在一个小包装中提供高性能。该枪被设计为所有SIMS应用的主要离子束，包括动态、静态和成像。 薄膜光学涂层 电子材料 通过基于windows PC的界面进行控制，处理源的热管理，该枪很容易和可重复地设置，可以配置为大电流或小光点应用。LabVIEW的驱动程序也可用，以允许OEM集成到其他系统。 空气稳定的离子源 小型安装法兰，安装灵活 易于安装自对准的替换源 源的使用寿命长 差分泵送，保持真正的UHV室压力 双透镜柱设计 易于更换光束定义孔径 ...

... 设计先进，结构简单实用，安装维护方便，运行成本低，离子束电流大，满足等离子体处理和辅助的要求，可与各种沉积系统配套，成为高端镀膜机的优秀配套单元。 有效去除工件表面的水分子和碳氢化合物；改善薄膜生长，优化薄膜结构；提高薄膜的一致性和可重复性。 ...