等离子体光源

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对自由基等离子体光源
对自由基等离子体光源
MAXstream

... Advanced Energy 的 MAXstream™ 系列是用于腔室清洗的新一代远程等离子源。MAXstream 提供 3、6、8、10 和 12 SLPM NF3 流量,以优化价格和性能。为确保腔室使用寿命长和颗粒生成量低,Advanced Energy 采用了其经过验证的差异化等离子源材料和技术。独特的双点火芯设计提供了同类最佳的等离子点火可靠性。MAXstream RPS 的特点是每次点火都很可靠,运行更稳定,减少了 RPS 维护的停机时间。MAXstream ...

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ADVANCED ENERGY
对自由基等离子体光源
对自由基等离子体光源
Xstream

... 高效的 Xstream® RPS 能解离大量 NF3 并快速清洁腔室,从而提高工具的整体性能。其等离子腔体采用高纯度铝合金,具有专利冷却功能。Xstream RPS 的使用寿命长达数年,无需维修或昂贵的腔室涂层,是可靠和高效性能的明智之选。 - 高度可靠的 RPS 可最大限度地延长工具的正常运行时间 - 有效地将反应物输送到工艺腔,提高性能 - 带有集成主动匹配网络 (AMN) 的变压器耦合等离子体 (TCP) 源 - 225 kHz 至 660 kHz 工作频率 - ...

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ADVANCED ENERGY
表面处理等离子体光源
表面处理等离子体光源
BS-80011BPG

安装在真空室内产生高密度等离子体的等离子体源。利用和真空蒸镀结合的等离子体辅助沉积技术(离子镀),能提高光学薄膜、保护膜、功能膜等的薄膜特性。另外,还可以用作等离子处理如对清洗基板和表面改性也很有效。 产品特点 安装在真空室内产生高密度等离子体的等离子体源。利用和真空蒸镀结合的等离子体辅助沉积技术(离子镀),能提高光学薄膜、保护膜、功能膜等的薄膜特性。另外,还可以用作等离子处理如对清洗基板和表面改性也很有效。 主要特点 ...

CVD等离子体光源
CVD等离子体光源

... 用于原子氧和原子氮的 RF Atom 源通过 优化的设计最大限度地减少功率损失 放电区由高品质材料制成,确保光束 零离子电流配置的污染最小化。 高品质复合材料的成长 理想情况下需要中性,原子物种。 而氧气或氮气等分子气体的反应性比分解成原子形态的反应性要小一个数量级。 因此,使用分子氧形成氧化物通常需要较高的温度和/或较长的氧化期,而分子氮对许多材料几乎没有反应。 因此,分离物种的反应性增加了许多数量级,因此允许在低压和合理的基底温度下种植氧化物或氮化物。 ...

表面处理等离子体光源
表面处理等离子体光源
TruPlasma DC 3000 (G2) series

... Tru...sma DC 3000 系列(G2)适用于多种直流溅射工艺,包括用作脉冲工艺电源的替代品。这是因为渐进式电弧管理可保证最佳的镀层质量,并显著提高产量。由于水冷直流发生器的设计极为紧凑,因此可以非常容易地集成到您当前的应用中。 同类产品中电弧能量最低 < 0.3 mJ/kW 的残余能量保证了最佳的镀层质量和高沉积率。 高功率密度 设计非常紧凑(19 英寸插入式装置),即使功率较大,也能轻松集成。 功率范围广 输出功率从 20 千瓦到 300 千瓦不等,因此也可用于替代大型发电机。 完全水冷 可延长系统运行时间并减少维护。 系统集成简单 可变线路电压(400 ...

等离子体光源
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HRP Series

... HyPelformance 等离子体源为客户提供最高均匀性、最快的切削速度和最长的机器零件使用寿命周期的切削质量,所有这一切都占我们在这一技术中竞争对手的运营成本的一半。 目前,全世界都在使用超过一万套系统,很明显,HyP性能等离子体是需要可靠性能的客户的首选系统。 ...

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