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作业宽度: 5 mm - 200 mm
... 主要用于金属、非金属、蓝宝石和半导体材料的双面研磨和抛光，具有气囊压力和圆盘冷却功能 ...
槽式碱抛光清洗设备 用于扩散后的硅片抛光刻蚀、清洗处理，以及搭配双面电池背面制绒、清洗处理。 预清洗→抛光→后清洗或O3清洗→酸洗→预脱水→烘干（供参考）。 • 产能：400片/批，8000片/小时。 • 兼容背面刻蚀抛光及单晶背面制绒工艺。 • 支持多种添加剂技术。 • 支持最薄120um硅片。 • 洁净区域干燥，自洁净系统。 • 快速换液，在线换液。 • 支持MES、RFID及选配在线称重功能。
TAP-400/600精密研磨抛光机系列设备是两轴高精密单面抛光设备，抛光头可自转、可摆动，可实现高压力、高转速抛光，可以单片抛光，也可以多片抛光，满足各种材料的高精密抛光要求。 铸铁机身，设备稳定性高 抛光头可自转、可摆动 可实现高速抛光 人机对话操作界面，功能全面，操作简便
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