激光平版印刷系统

... 点阵式电子束光刻系统 JBX-8100FS 实现了高吞吐量、小占地面积和省电。 特点 占地面积小 标准系统所需面积为 4.9 米（宽）x 3.7 米（深）x 2.6 米（高），比传统系统小得多。 功耗低 正常运行所需的功率约为 3 千伏安，仅为传统系统的 1/3。 高吞吐量 该系统有两种曝光模式：高分辨率模式和高吞吐量模式，支持从超细加工到中小型生产的不同类型的图案化。它最大限度地减少了曝光期间的空闲时间，同时将最大扫描速度提高了 1.25 至 2.5 ...

... JBX-9500FS 是 100kV EB 系统，在点束光刻系统中具有世界顶级的生产能力和定位精度。该 EB 系统可容纳最大 300mmΦ 晶圆和最大 6 英寸掩膜，从而满足纳米压印、光子器件和通信器件等多个领域的研发和生产需求。 特点 JBX-9500FS 的最高扫描速度为 100MHz，当字段尺寸为 1000µm×1000µm 时，叠加精度为 ±11nm，字段拼接精度为 ±10nm，字段内位置精度为 ±9nm。因此，JBX-9500FS 是一款 100kV ...

... 逐步重复的纳米压印光刻系统 阶梯式重复纳米压印光刻技术用于高效的母版制造 EVG770 NT是一个多功能的平台，用于步进重复(S&R)纳米压印光刻技术，以实现高效的母版制造或直接在基底上形成复杂结构的图案。这种方法允许从30平方厘米以下的小模具中均匀复制模板。S&R工艺允许在大面积上多次复制这些模具，最高可达2代面板大小的基材。与金刚石车削或直写方法相结合，S&R压印经常被用来有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。因此，它通常是大批量制造增强现实波导、光学传感器、衍射光学、元表面或生物医学设备的重要先决条件。 EVG770 ...

Nanoscribe的Quantum X是全球首创双光子灰度无掩模光刻系统，适用于制造微光学衍射以及折射元件。 体验全新Quantum X 全新的Nanoscribe Quantum X系统适用于工业生产中所需手板和模具的定制化精细加工。该无掩模光刻系统颠覆了自由形状的微透镜、微透镜阵列和多级衍射光学元件的传统制作工艺。 全球首个双光子灰度光刻(2GL®)系统将具有卓越性能的灰度光刻与Nanoscribe精确灵动的双光子聚合技术结合起来。 Quantum ...

... K&S 光刻通过开发专用解决方案，大幅降低拥有成本，为您带来了高级包装光刻的突破。 LiteQ 500 投影步进器的主要特点和优势 最高吞 吐量提高 2 倍的拥有成本 激光基于光源 创新光学设计 高速晶圆处理 模块化系统架构 差异化软件 ...