- 计量设备、实验室仪器 >
- 光学元件 >
- 硅胶透镜
硅胶透镜
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
波长: 350 nm - 16,000 nm
... 保修:3 个月 定制支持:OEM 原产地:中国吉林省中国吉林 品牌名称: YT品牌名称: YT 型号: YT-272 用途: 光学光学 结构: 平面凸面平凸镜 形状: 平凸平面 基底:Bk7 FS UVFSBk7 FS UVFS CaF2 Si G 直径(毫米):客户要求 中心厚度客户要求 边缘厚度:客户要求客户要求 弧度客户要求 涂层客户要求 波长范围 (nm):350-16000 平面度:1/4 λ S/D: 60/40 应用:用于投影仪 ...
直径: 3.5 mm - 200 mm
... Tamron 公司拥有经验丰富的工程师,配备先进的生产设备和测量装置,用不同的玻璃材料生产出大量不同形式的元件:平凸、双凸、凸半月、平凹、双凹和凹半月。直径范围小至 3.5 毫米,大至 200 毫米。 利用包括设计、加工和测量在内的各种光学技术,我们在为各种产品制造从小径到大径的各种透镜元件方面有着良好的记录。我们管理从原型到批量生产的整个流程,包括根据客户要求满足特殊规格产品的需求。 轮廓 从初始样品到生产的高精度光学元件 材料 光学玻璃、硅玻璃、Si、Ge ...
直径: 6 mm - 250 mm
波长: 3 µm - 14 µm
埃赛力达精密球面透镜可定制透镜尺寸和曲率半径,以完美适用于您的特定应用。我们特别设计的红外球面透镜可满足要求苛刻的对整个红外光区具有需求的应用。通过我们的先进等离子体源(APS)镀膜技术,这些球面透镜提供卓越的抗环境损伤劣化特性,实现对高纵横比部件形变的精确控制。 我们的红外球面透镜包括高性能FLIR成像仪,其中包含激光线和其他基于红外激光的系统,例如用于激光瞄准和红外线反制应用的系统。这些球面透镜由各种基材材料制成,可在3 µm至14 µm光谱范围内工作。组件直径从6 ...
Research Electro-Optics
... 球透镜的制造和使用有着悠久的传统。 球透镜在选定波长下的有效焦距(EFL)和工作距离(WD)取决于玻璃折射率 n 和球直径 D,即 ...
直径: 3 mm - 500 mm
... 我们公司生产各种类型的光学镜片。ARD- Optics提供各种不同光学材料的高精度镜片。 根据客户的要求,我们生产不同配置的镜头。 ...
... 用于 AVAGO ASMT-AW00 LED 的单透镜,白色支架 直径 34,00mm-19,60mm 高度- NJC 实现的窄光束技术 优势: -高照明效率 -无振动问题 -免费测试 典型应用: -建筑照明 -灯具 -路灯 -大多数需要紧凑光源的应用 ...
KHATOD OPTOELECTRONIC S.r.l.
直径: 0.1 mm - 800 mm
硅片 产品时间:2020-09-15 15:11价 格: 简要描述:属性 /Attribute 规格 /Specification 外径 /OuterDiameter(mm ) 0.1mm-800mm 厚度 /Thickness ( mm ) 0.5 公差 /Tolerance ( mm ) 0.01 光洁度 /SurfaceQuatliy 10/5 偏心 /Centration 5 通光孔径 /Clearaperture 100% 光圈(...
直径: 5 mm - 300 mm
... 平面-凹面 (PCV) 透镜具有负焦距,发散准直入射光,并且仅形成通过透镜看到的虚拟图像。 它通常用于在现有系统中扩大光束或增加焦距。 它们广泛应用于望远镜、准直器、光学收发器、放大器、辐射计和冷凝器。 创建者光学可以根据偏离的要求生产各种平面凹透镜。 切割镜头,如矩形,步骤可用。 平面凸透镜的主要材料如下: BK7 玻璃和所有目录光学玻璃制品,蓝宝石晶体,石英晶体,锗单晶体,硅单晶体,ZnSe,氟化钡(BAF2),氟化钙(CaF2),ZnS,比利牛斯,BOLOFOAT,浮法玻璃等 -表面质量:80 ...
CreatorOptics
... 康宁® ULE® 玻璃(超低膨胀玻璃)7972 是一种二氧化钛硅酸盐玻璃,具有接近零膨胀的特性,是机床基准块、光栅、基准块、干涉仪基准镜和望远镜镜等独特应用的首选材料。 ULE 是一种单相过冷液体,其 CTE 非常接近 0 ppb/K。 EUV ULE 7973 专门用于满足 EUVL 应用对掩膜和光学基底的需求。 光刻技术从 193 纳米过渡到 13.4 纳米要求步进光学器件的设计从折射式向反射式进行重大转变。在反射式光学器件中,基底材料应该是纯被动的。入射光应在光学器件和光掩膜的多层涂层上反射,而不会因底层基底材料造成任何机械或光学变形。 为了最大限度地减少微小温度变化造成的失真,并满足严格的 ...
为提升搜索质量,您认为我们应改善:
请说明:
您的建议是我们进步的动力:
剩余字数