光刻系统

... EVG620 NT 因其灵活性和可靠性而闻名，以最小的占地面积提供最先进的遮罩对准技术。 操作员友好的软件，最大限度地缩短了掩模和工具更换的时间，以及高效的全球服务支持，使其成为任何研发环境直至半自动批量生产的理想解决方案。 该工具支持各种标准光刻工艺，例如真空、软、硬和接近曝光模式以及背面对齐选项。 此外，该系统还为多用途配置提供额外的功能，包括粘合对准和纳米压印光刻。 此外，EVG 专有的 SmartNil 技术支持半自动化和全自动化系统配置。 SmartNil ...

... EVG770 是一个多功能平台，用于分步和重复纳米压印光刻，用于高效的主体制造或直接绘制基板上复杂结构。 这种方法允许在最大 300 mm 基板尺寸的大面积上均匀复制 50 mm x 50 mm 的小型模具。 与金刚石车削或直接书写方法相结合，经常使用步进和重复印印刷来高效制造晶圆级光学制造或 EVG SmartNil 工艺所需的大师。 EVG770 的主要特点包括精确校准能力、完整的过程控制以及满足各种设备和应用需求的灵活性。 具有用 于晶圆级光学至纳米结构的微透镜的高效主制造，适用于 ...

... IQ Aligner UV-NIL 系统允许使用直径为 150 mm 至 300 mm 的印章和晶圆进行微成型和纳米压印工艺，非常适合高度平行制造聚合物微透镜。 该系统从晶圆尺寸主印章复制的软工作印章开始，提供混合和单片微透镜成型工艺，可轻松适应各种材料组合，用于工作印章和微透镜材料。 此外，EV 集团还提供合格的微透镜成型工艺，包括所有相关材料专业知识。 EV 集团专有的夹头设计为高产量大面积印刷提供了统一的接触力。 配置包括印迹基板印章的释放机制。 特点 用于光学元件 的微成型应用用于全场纳米 压印应用的三个独 立控制的 ...

... PhableR 100系统基于Eulitha AG公司开发的专有PHABLE（Photonics Enabler的缩写）光刻技术，该技术使在非接触、近距离光刻系统中打印高分辨率的周期性结构成为可能。使用PhableR 100获得的分辨率与DUV投影光刻系统基本相同，但没有复杂而昂贵的光学和机械装置。例如，半间距为150纳米的线性光栅可以用新系统以高均匀度打印出来。作为一个额外的优势，PhableR 100系统所形成的图像的焦点深度实际上是无限的，这意味着高分辨率的图案甚至可以在非平坦的基底上以高均匀性进行印刷，这在光子学应用中是经常遇到的。 PhableR ...