光电技术镀膜机
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... 采用 PVD 方法的 PCB(印刷电路板)镀金设备。 RTSP1215 设备专为采用溅射沉积技术的 PCB 镀金而定制。 如果您对最终成品或设备感兴趣,请联系我们! ...
Shanghai Royal Technology Inc.
Multi950 设备位多面体(八面体)结构, 可安装:1套阳极层离子源,1对MF中频磁控溅射阴极; 1对PECVD阴极, 8只可控阴极弧发射源.且安装法兰均为标准型号,实现 离子源,弧与溅射阴极随工艺不同而灵活互换的功能. 设备特点 1. 灵活性:腔体采用侧壁八面体设计,前后开门;每个面采用门法兰安装方式,阴极,弧源,溅射阴极,离子源等器件分别安装于各个门法兰上;可实现灵活互换,对R&D研发新涂层非常适用 2. 多样性:可以沉积各种本金属和金属合金;光学膜,硬质涂层,软质涂层,复合膜 ...
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PVD磁控溅射技术广泛用于沉积难熔金属,如钽、钛、钨、铌,需要很高的熔点, 贵金属:金,银,也用于沉积较低熔点的金属,如铜、铝、镍、铬等。 钽由于具有良好的抗侵蚀性,在电子工业中被用作保护涂层。 溅射钽薄膜的应用 1. 微电子工业作为薄膜可以反应溅射,从而可以控制电阻率和电阻温度系数; 2. 医疗设备配件,如人体植入物,因为它具有很高的生物相容性; 3. 在耐腐蚀部件上的涂层,如热罩、阀体和紧固件; 如果涂层是连续的、有缺陷的,并且附着在基材上,则溅射钽涂层也可以用作有效的耐腐蚀屏障。 RTSP1000 ...
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... 皇家技术公司已在全球设计、制造和安装了 100 多套热蒸发涂层系统,应用领域和行业多种多样,例如 汽车塑料外饰/内饰 汽车照明和部件 商业、工业和住宅 LED 照明反射器 化妆品包装 玻璃器皿和镜子 电子消费品 EMI 保护膜和 NCVM 膜 玩具零件和体育用品 洗衣机等家用电器和各种家具配件 时装、钟表 仅举几例,PVD 真空金属化工艺在镀膜行业的其他许多领域也得到了持续的应用和发展。 PVD 金属化工艺使物体具有高光泽度、反光性和金属外观,并可呈现不同的颜色。 PVD ...
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... 感应加热具有工艺生产率高、通用性强、清洁、可实现全自动化等优点,因此被广泛应用于各个领域。作为 PVD 热蒸发技术的一种方法,该工艺对环境友好。由于感应加热的温度可达 2000℃以上,因此这种方法非常适合工业生产和科学研究。 RTEP400 感应蒸发镀膜机专为 C60 在各种材料上的蒸发沉积而设计。C60 制造商为前瞻性产品提供研发和测试结果。帮助他们拓展新应用行业的有力工具。 第一套设备已为上海大学生产。工业生产模型正在加工中。 应用领域 C60 ...
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誘導加熱は高いプロセス生産性および普遍性による異なった分野完全なオートメーションの清浄および可能性で広く利用されています。PVDの熱蒸発の技術の1つの方法として、プロセスは環境のために友好的です。誘導が2000℃および多くの温度に達することを割り当てるのでこの方法は工業生産のために非常に適して、科学研究。 RTEP0404誘導の蒸発のコータは材料のC60蒸発の沈殿のために変わります設計されています。C60は将来に提供しますR & Dおよび試験結果を製造します。新しい応用企業を拡大するためにそれらを助ける強い用具。 主要出願: 薄膜の層およびコーティングを沈殿させるため ...
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... 我们很高兴为您推荐 MultiWeb 系列卷对卷真空溅射卷材镀膜机,以满足您的多层沉积要求。 低辐射薄膜卷绕镀膜机 应用:电子纸、柔性电路、光伏、医疗带、RFID(射频识别)和低辐射薄膜。 沉积薄膜 1.基底材料PET、PEN、PES、PI、PC、PA...薄膜 2.基底厚度:15~300μm 3.沉积方法交流反应法用于二氧化硅(介质);脉冲直流法用于 ITO(金属和导体) 4.氧化物导体 TCO:ITO、AZO、IZO... 5.金属导体铝、铜、钼、银 6.光学薄膜Ta2O5、Nb2O5、SiO2、TiO2... 7.半导体氧化锌、InGaZnO... 8.绝缘体SiO2, ...
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... 闭磁场不平衡磁控溅射沉积系统,不平衡磁控溅射离子镀 非平衡和闭磁场磁控溅射工艺具有平面磁控管的所有优点。其他优缺点如下 额外的离子轰击产生致密、附着的薄膜 可进行离子辅助和基底清洁 改进了薄膜的摩擦学性能、耐磨性和耐腐蚀性 适用于多层、超晶格、纳米层压剂和纳米复合薄膜 材料使用更少 更复杂的阴极配置/成本 非平衡和闭磁场磁控溅射彻底改变了磁控溅射工艺可实现的性能。虽然这项技术成功地改善了薄膜的摩擦学、耐腐蚀性和光学性能,但磁控溅射技术的改进才刚刚开始。下一篇博客我们将讨论旋转和圆柱形磁控溅射工艺以及由此产生的薄膜应用。 ...
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... 1) 适用于塑料、陶瓷、玻璃和金属的表面沉积、金属化装饰涂层 2) 单门结构使涂层和基材的装载更加高效,生产率高 3) 沉积速度快,涂层色彩鲜艳,厚度均匀 4) 无废气、无废水,绿色环保 5) 镀膜经验:亮膜、金属膜、折叠膜、拉丝膜、滴膜、彩膜 6) 立式或卧式真空金属化机/真空金属化机 2.应用范围 金属、玻璃、陶瓷、水钻、艺术品、门把手、首饰、帽子、鞋子、手表、灯饰、装饰品、电话、DVD、MP3、PDA、纽扣、玩具、园艺用品等。 塑料镀铬机镀膜均匀度好,操作简单,效率高,成本低。 塑料真空镀金机采用真空室中的电阻加热,使附着在电阻丝上的金属丝(铝丝)熔化并气化。气化后的金属分子沉积在基材上,形成光滑的薄膜,同时具有高反射率。因此,物品表面可以得到装饰和美化。 特点:结构合理、成膜均匀、成膜质量好、抽气速度快、周期短、效率高、操作简便、能耗低、性能稳定等优点。 ...
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... 什么是对二甲苯? 它是一种无色透明的聚酯保护材料。它适合在室温下进行真空镀膜,真空镀膜压力低于 10-5 托,而聚对二甲苯镀膜过程的压力约为 0.1 托。涂层厚度可控制在 1-100 微米之间。该涂层是美国在 20 世纪 60 年代初开发的一项专利。它最早应用于美国...印刷电路板、航空航天和水下发射装置的微电子元件领域,1972 年列入美国...标准: MIL-I-46058C 微米和纳米加工技术:化学气相沉积 (CVD) 将粉末状纳米材料放入真空纳米涂层设备的蒸发室中,在 ...
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NEXUS PVD-1 物理气相沉积系统 适用于多种应用且简单易用的多功能工具 Veeco NEXUS PVD-1 单晶片物理气相沉积模块提供所需的简单性、可靠性和性能。该系统兼容各种晶片尺寸,可定制用于多种数据存储应用场合(例如氧化物和氮化物沉积)和磁性材料。它还为半导体、GaAs 和封装应用场合提供了高性能、低成本工具。 轻松配置可满足特定加工和生产需求 支持从 3 英寸到 8 英寸的圆形晶片尺寸 标准附件包括阴极、晶片夹头、气体多支管、快门和泵包装 模块化降低了操作员和维护人员培训要求以及备件库存 经过设计可与 ...
... Bühler Leybold 光学公司的 SyRusPro 系列是行业领先的平台,具有高精度和高产量的精密光学涂层。 SyrusPro 涂层器非常适合从深紫外线 (DUV) 到可见光谱 (VIS) 到红外 (IR) 光谱范围的应用。 各种涂层包括边缘过滤器(短通和长通)、UV — IR 切割过滤器、缺口过滤器和窄带通过滤器、二色彩色滤光器和偏振分光器、激光器的 AR 和 HR 涂层等等。 每个 SyrusPro 都配备了大量比勒莱博德光学系统专有和标准化的组件,以满足客户的要求。 ...
Bühler Leybold Optics
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... LEYBOLD OPTICS DLC 是一种高真空等离子增强化学气相沉积(PECVD)系统,主要用于热成像系统的红外(IR)涂层。 行业领导者正在使用 LEYBOLD OPTICS DLC 设备来保护光学设备免受损害,这些设备应用于本机基材上的极硬和环境电阻光学涂层。 系统设计可实现极硬的层表面 LYBOLD OPTICS DLC 系统专为生产类金刚石硬碳 (DLC) 层涂层而设计,用于锗 (Ge) 和硅 (Si) 基材上的红外抗反射应用。 极其坚硬的 DLC ...
Bühler Leybold Optics
... NESY 系列是比勒 · 莱博德光学公司最新一代磁控溅射系统。 它专门用于在超高真空(UHV)条件下生产极端紫外线(EUV)反射镜的涂层,专为量产和新产品的开发而设计。 NASY 涂层机最多可配备六个不同的矩形溅射阴极,并且可以使用钼和硅,以及实现完整镜面涂层所必需的其他材料。 因此,可以在一个周期内执行完整的涂层堆栈。 适用于未来的 钼硅多层反射镜的涂层器具有突破性的应用,波长为 13.5 nm 的最大反射率,已成为反射技术的经典之作。 这些镜子作为冷凝器或投影仪镜子在下一代光刻设备中不可或缺。 ...
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