高真空型炉
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... Vector HV是一种水平或垂直方向的单室高真空炉,使用气体冷却,可用于各种热处理工艺和应用。它为生产高均匀度的热处理部件、高工艺洁净度、高一致性的工作量以及低能耗和低工艺气体的高效加工提供了重要的能力。 Vector HV炉配备了圆形石墨或金属热区,是在高工艺纯度和零件表面质量方面要求很高的热处理的理想解决方案。 特点: / 高真空处理 - 高达10-8毫巴 / 操作温度 - 1450°C / 2640°F / 温度均匀性+/-6°C /+/-10°F / ...
... 真空熔炼技术和设备 我们在美国、波兰和中国这些对高熔炼和铸造技术需求最大的地区的工厂生产真空冶金设备。自2006年起,通过对Retech的战略收购,我们为全球客户提供熔炼炉和热处理炉领域的全面解决方案。我们的客户已成为公司合并后协同效应的受益者。 电子束熔炼为用户提供了一种成熟的精炼技术,适用于各种特种金属。Retech电子束炉利用冯-阿登纳喷枪和冷炉的易用性和低维护性,在密封的真空室中熔化活性金属和难熔金属。冷炉是一种水冷式的合作容器,不含氧气等污染元素,在冷炉精炼过程中,通过去除高密度和低密度的夹杂物,产生清洁、无杂质的金属。电子束炉可以设计成各种尺寸,从实验室规模到许多吨级。我们的电子束炉可配置单支或多支喷枪、进料系统和退料室,以满足客户的需求。我们积极与客户合作,开发必要的设备和工艺解决方案,包括上游和下游组件,以及合金和应用开发。作为电子束技术的世界领导者,冯阿登公司为Rech提供了理想的合作伙伴,生产出最精细、最耐用的生产设备,以超越我们最复杂的客户的要求。 ...
温度: 650 °C
... 通用箱式炉 VAB 高真空炉和装料系统 - VAB 2xX 带装载系统的 VAB 箱式炉是一种专用于铝真空钎焊的设备。通过采用无需助焊剂的高效技术(无助焊剂技术),可显著提高环境安全性,同时确保结果的可重复性。这种解决方案保证了高度的加热均匀性,并通过优化加热元件的位置,最大限度地减少了生产短缺,有利于保持每个批次位置的条件一致。 带装载系统的 VAB 箱式炉配备了高性能系统,可实现高真空和优化的加热室。由于结构和加热器配置设计合理,它能为客户提供高质量的零件,特别是用于热交换器的钎焊。 VAB ...
... Topcast TVM 是在封闭环境中设计的感应炉,用于在高真空条件下熔化和浇注任何种类的合金。 特别是在涉及活性金属(如钛、TiAl、锆和镍基合金)时,TVM 是正确的选择。 钴、铬、钼和 PGM 合金也是 TVM 的典型应用实例。 说明 TVM 炉在概念上分为 4 个子系统: 1.真空熔炼室,可选配合金进料室 2.感应发生器 3.倾斜线圈和坩埚组件 4.金属或外壳技术铸造模具 TOPCAST 根据客户对坩埚容量、模具尺寸和真空度的具体要求开发此类熔炉。 ...
温度: 2,800 °C
容量: 4 l - 12 l
宽度: 140 mm - 200 mm
... 气氛控制箱式炉用于金属产品制造、热处理、烧结、熔化、老化、热测试、粉末合成和化学分解等应用,在这些应用中,炉内需要保护性环境,以获得所需的产品。气氛控制箱式炉设计用于在氩气、氮气、真空、氢气等大气条件下进行热处理。此外,水冷系统压力、箱体温度、内部大气压力、智能系统均由用户监控,以确保工艺安全。 可调式手动气体流量计、高压泄压系统、超温报警器和真空泵作为标准配置集成在炉内。 您可以检查用于氢气环境、较好真空条件和金属样品的气氛控制石墨炉,如需了解更多信息,请联系我们。 标准功能 ...
温度: 1,900 °C
... 最高。温度(℃):1900 连续使用温度 (°C): 1700 容量(L):1 真空度: 10^-4 torr 气体流量计。 质量流量控制器(数量:2个用于CH4和H) 进气孔。KF 25(总数量:2,1个用于真空,1个用于惰性气体入口) 压力控制。 压力传送器和真空传感器 真空扫描极限:10^-4torr的扩散泵系统将被集成到炉子里。 抽真空后,加热过程将继续使用氩气、甲烷和氢气。 炉膛类型。垂直和圆柱形 加热室。 强化舱,耐高真空。 加热元件。石墨 护热板。石墨 温度显示灵敏度:± ...
温度: 0 °C - 1,750 °C
... 我们的超大型热处理炉包含一个8立方英尺的可用区,温度可高达1750 °C (3200 °F)。它具有高负荷能力,16英寸或20英寸扩散泵系统,以及用于快速冷却的气体热交换器。 热区由钨、钼或钽棒加热元件制成,保证了出色的寿命、刚性、均匀性和产品兼容性。 炉膛有一个前后检修门,以方便装载和维护。 有一个装载车可供使用,以方便操纵大型和重型负载。 一般规格。 最高温度达1750 °C (3200 °F) 24″×24″×24″的可用热区(610mm×610mm×610mm) ...
Materials Research Furnaces
温度: 0 °C - 2,300 °C
... 我们的底部负荷烧结炉专为电子元件的高温烧结量身定制。 循环包括大气制备、加热、强制冷却和控制氧化。 该炉的可用区域为 12” 直径 x 22” 高(305 毫米 x 559 毫米),适用于大批量加工。 该炉具有两个腔室,一个用于装载和卸载、冷却和控制氧化的底部腔室,以及一个用于高温烧结的顶部腔室。 两个腔室的气氛是隔离的,电动升降机将负载堆从底部腔室移入加热室。 在钽或钨热区,热区温度可达 2100° C。 高吞吐量 10 ″ 或 16 ″ 扩散泵系统可处理产品加热期间通常看到的负载外气体。 ...
Materials Research Furnaces
温度: 0 °C - 2,100 °C
... 我们的两站式烧结炉基于底负荷烧结炉,但能够同时处理两个负荷,在相同的占地面积内基本上将吞吐量增加一倍。 我们的烧结炉广泛应用于电子行业,用于高温烧结或热处理电子元件。 循环包括大气制备、加热、快速冷却和控制氧化。 两站式炉通过加热热室中的一个负荷,同时冷却底部腔室中的第二个负荷,同时处理两个负荷。 该炉的可用区域为 12” 直径 x 22” 高(305 毫米 x 559 毫米),适用于大批量加工。 该炉具有两个腔室,一个用于装载和卸载、冷却和控制氧化的底部腔室,以及一个用于烧结的顶部腔室。 ...
Materials Research Furnaces
温度: 2,600 °C
... HTCVT/HTCVD系统专为碳化硅 (SiC) 晶体在高温下升华/热分解 (热解) 而设计。 通过高真空能力,可以在工艺开始之前实现水和氧气的超清洁表面。 系统设计允许使用直径达 4 英寸的基材(种子)。 技术规格 反应器管 工作压力: 约 5-900 mbar 工作温度: 最大 2,600° C 电源 功率: 最大 80 kW 频率: 6-8 kHz 优点 HTCVD: 高纯度SiC-材料 调整C/Si比 掺杂 优点升华: 众所周知的技术 满足功率基板 应用的要求 -PFC(功率因数转换器) -混合技术的逆变器和转换器 -太阳能发电逆变器 -高频电子 -光电子 ...
温度: 0 °C - 1,350 °C
... 由 Fossati 认证的高耐火材料制成,并由 AISI 金属木工保护。 ...
温度: 1,200 °C - 1,600 °C
高度: 100, 200 mm
... 变形是 AM 工艺中遇到的主要问题之一。因此,正确的热处理是获得高质量产品的关键。高真空炉为每道工序提供了可靠的热处理条件。 除了金属三维打印后处理外,真空炉也是许多科学和工业实验室的必备设备。真空炉的应用包括 钎焊、烧结、错位结构设计、淬火 实验室大小的设备 总尺寸为 1200 x 800 毫米,工作腔为圆柱形。热区直径为 120-200 毫米,高度为 100-200 毫米。 最高温度 根据具体需要,有两种选择:最高 1200 °C(LPBF 中钛热处理的理想选择,钎焊)或最高 ...
宽度: 1,410 mm
高度: 1,825 mm
深度: 1,115 mm
... 我们的熔炼炉系列有各种尺寸,能够容纳各种坩埚。 我们的工程师与客户紧密合作,选择适合他们要求的熔炼炉。 优点 使用9号马弗。 可容纳25 x 50g和65g,或42 x 30、40g和55g坩埚。 易于维护和操作。 与 "多浇 "装载/卸载系统兼容。 按照工业标准建造。 技术规格 结构 炉子是2毫米的退火锌钢板,内衬防火砖,背衬Superwool保温板。 炉子安装在一个由2毫米退火锌板制成的控制台上,并以Hammerfin蓝色搪瓷装饰。 内部尺寸 9号马弗炉370毫米高x ...
... 工业干燥 使用具有可预测热惯性的金属电阻器可以产生高精度的热量。 此外,它们不会污染周围的气体,例如可用于脱水药物、化学品或食品。 由于这些原因,现代工业越来越多地转向使用电阻器发热。 。 地板加热系统 由于其简单的实施抗板 (膨胀金属) 与低电压馈送 (< 50 V) 提供非均匀和均匀的表面温度. 此应用程序适用于地板采暖冷室特别。 ...
... ALD 内部炉提供超过 15 年的电子束熔化 ALD 正在运行一个内部炉,用于测试新部件,提供在销售炉之前对客户材料进行测试的可能性,并提供有价值的材料转换服务。 ...
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