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... 产品介绍： 硬质涂层喷涂机是一种专门用于制备硬质涂层的设备。它采用先进的涂层技术，可在各种基材表面沉积具有高硬度、高耐磨性和优异性能的涂层。 这种镀膜机通常由多个关键部件组成，包括真空系统、溅射源或蒸发源、基片处理装置等。通过精确控制这些部件的工作参数，可以实现对涂层厚度、成分和结构的精确控制。 硬涂层镀膜机的应用非常广泛。在工业领域，它可以为工具、模具等提供耐磨保护，延长使用寿命；在电子领域，它可以提高元件的硬度和耐腐蚀性。其涂层工艺具有很高的可重复性和稳定性，可满足不同领域对高质量硬涂层的需求。 此外，该设备还具有操作简便、自动化程度高等特点，可提高生产效率，确保涂层质量的一致性。 ...
... 药品生产需要最高的精确度。对精确度的要求也体现在包衣工艺上，即把含有活性成分的基质精确地涂在载体材料上。Harro Höfliger 与专业的技术合作伙伴一起，将创新的包衣工艺整合到生产流程中，并始终关注产品特性。例如，这种工艺是精确制造含有活性成分的贴片的基础。 优势 - 选择合适的涂层工艺 - 选择合适的干燥工艺 - 单区或多区干燥 - GMP 和 GAMP 标准 - 整个工艺的质量保证 - 模块化和灵活的设计 - 扩大规模的可能性 最终产品 - ...
... P600MR 卷对卷涂布机用于在聚合物薄膜上生产均匀的单面涂层。这些镀膜机可以很容易地更新，以满足客户的要求，并确保为触摸屏、液晶显示器、太阳能电池和太阳能控制材料沉积单层和多层叠层。它们还可用于为 FPCB 沉积厚导电金属层。 工程与技术 单面涂层在三个相互隔离的隔间中沉积，每个隔间都有一个工艺鼓。工艺鼓的加热/冷却系统可显著提高镀膜机的功能。 多室腔体设计带有独立的泵，可在相邻溅射区之间提供必要的压力差。垂直基片进料可确保沉积表面无颗粒。 SIDRABE ...
... 多弧离子真空镀膜机 产品说明 系统摘要 电弧放电。电弧或电弧放电是气体的电击穿，产生持续的放电。电流通过空气等通常不导电的介质产生等离子体；等离子体可能产生可见光。弧光放电的特点是电压比辉光放电低，它依靠支持电弧的电极的电子热发射。 多电弧离子涂层可以以多种颜色沉积。在沉积过程中，通过将活性气体引入室中，可以进一步提高颜色的范围。装饰性涂层最广泛使用的反应性气体是氮气、氧气、氩气或乙炔。产生的装饰性涂料在一定的颜色范围内，取决于涂层中金属与气体的比例和涂层的结构。这两个因素都可以通过改变沉积参数来改变。 在沉积之前，要对零件进行清洗，使其表面没有灰尘或化学杂质。涂层过程开始后，所有相关的工艺参数都由计算机自动控制系统连续监测和控制。 - ...
Ningbo Danko Vacuum Technology Company
... 大型多弧离子喷涂机 产品说明 系统摘要 电弧放电。电弧或电弧放电是气体的电击穿，产生持续的放电。电流通过空气等通常不导电的介质产生等离子体；等离子体可能产生可见光。弧光放电的特点是电压比辉光放电低，它依靠支持电弧的电极的电子热发射。 多电弧离子涂层可以以多种颜色沉积。在沉积过程中，通过将活性气体引入室中，可以进一步增强颜色的范围。装饰性涂层最广泛使用的活性气体是氮气、氧气、氩气或乙炔。产生的装饰性涂层在一定的颜色范围内，取决于涂层中金属与气体的比例和涂层的结构。这两个因素都可以通过改变沉积参数来改变。 在沉积之前，要对零件进行清洗，使其表面没有灰尘或化学杂质。涂层过程开始后，所有相关的工艺参数都由计算机自动控制系统连续监测和控制。 - ...
Ningbo Danko Vacuum Technology Company
... 磁控溅射镀膜机 产品说明 系统摘要 多弧离子和溅射涂层可以以多种颜色进行沉积。在沉积过程中，通过将反应性气体引入腔室，可以进一步增强颜色的范围。装饰性涂层最广泛使用的活性气体是氮气、氧气、氩气或乙炔。产生的装饰性涂料在一定的颜色范围内，取决于涂层中金属与气体的比例和涂层的结构。这两个因素都可以通过改变沉积参数来改变。 在沉积之前，要对零件进行清洗，使其表面没有灰尘或化学杂质。涂层过程开始后，所有相关的工艺参数都由计算机自动控制系统连续监测和控制。 - ...
Ningbo Danko Vacuum Technology Company
... 深黑色PVD喷涂机 产品说明 系统摘要 多弧离子和溅射涂层可以以多种颜色进行沉积。在沉积过程中，通过将反应性气体引入腔室，可以进一步增强颜色的范围。装饰性涂层最广泛使用的活性气体是氮气、氧气、氩气或乙炔。产生的装饰性涂料在一定的颜色范围内，取决于涂层中金属与气体的比例和涂层的结构。这两个因素都可以通过改变沉积参数来改变。 在沉积之前，要对零件进行清洗，使其表面没有灰尘或化学杂质。涂层过程开始后，所有相关的工艺参数都由计算机自动控制系统连续监测和控制。 - ...
Ningbo Danko Vacuum Technology Company
... 它适用于半导体和光伏领域。对于光伏领域的 TOPCon 工艺电池，LPCVD 设备可一站式完成隧道氧化层/多晶层的制备。热氧与多晶层沉积相结合，可大大提高产能，同时兼容 i/d-Poly 生长工艺。 主要特点 成熟的高产能工艺、双模温度控制技术、膜规保护技术； 具有多种镀膜技术：多层复合膜、掺杂多晶硅技术； 获得专利的快速冷却炉体：最新专利技术使炉体温度快速降至所需温度，冷却速度可提高 25% 以上，可明显改善炉管内的温度均匀性； 快速自适应压力闭环控制技术； 结构完整、性能卓越的 ...
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