磁电管
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... Angstrom Sciences 的圆形磁控管已被公认为溅射行业的标准,因为它具有 Angstrom Advantage™ 和许多其他设计特点,在配置和工艺性能方面几乎提供了无限的可能性。 其紧凑的设计使我们的圆磁控管成为任何新应用或改装应用的理想选择,包括用于最小真空室的最复杂的簇组件。 低阻抗磁头兼容射频、直流、中频直流、脉冲直流、HiPIMS 和微波功率。 我们使用 ISO NW 标准接头以及 Conflat® 金属密封法兰。所有公用设施均保持在大气压下,并通过标准 ...
Angstrom Sciences, Inc.
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... 随着越来越多的行业发现磁控溅射的速度、可控性和底线优势,Angstrom Sciences 正在开发各种工具,以最大限度地提高这些大型、快速制造工艺的产量。 更广泛的解决方案 对于需要在极宽的基底上进行镀膜或需要实现极高吞吐量的用户,线性磁控管提供了完美的解决方案。 专利优势 Angstrom Sciences 的线性磁控管采用我们获得专利的全封装异型钕铁硼稀土磁铁和湍流水流,可提供无与伦比的性能。 标准配件 我们使用 ISO NW 标准配件以及 Conflat® ...
Angstrom Sciences, Inc.

... 可使用 3 英寸(75 毫米)或 5 英寸(125 毫米)背管直径的插入式和侧面安装式全套组件,长度可达四米,并具有最小的源对源间距,可为紧凑型高产能生产系统提供多个在线阵列。 ONYX-Revolution™ 采用通用、高性价比的磁体设计,具有定制的周转能力,适合任何类型的目标。而且,它采用现成组件设计,成本低、投资长、可靠性高。 Angstrom Sciences 的专利异型磁铁技术可在源和基底之间形成更接近正常的沉积轮廓。改进后的沉积剖面可减少腔室壁上的碎片堆积。 此外,Angstrom ...
Angstrom Sciences, Inc.
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... 高功率脉冲磁控溅射或 HiPIMS 是脉冲溅射技术的最新进展,它利用能量极高、持续时间极短的脉冲产生等离子体放电,使大部分溅射原子电离。电离后的通量可以被引导,从而增强对涂层特性的控制。 Angstrom Sciences 已经开发出一系列溅射阴极,能够承受超过 1500 瓦特/平方英寸的极端功率密度,适用于连续长时间的生产应用。Angstrom Sciences 的高脉冲功率脉冲磁控溅射阴极在阳极体和安装法兰中加入了额外的冷却通道,与我们获得专利的湍流目标冷却一起,在工艺操作过程中保持最佳的冷却效果。 其他特点包括被动和主动磁体阵列,可在靶材寿命期间保持靶材表面的场强一致,这对 ...
Angstrom Sciences, Inc.
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... Angstrom Sciences 使用有限元分析 (FEA) 磁体建模来定制磁体轮廓,以满足您的工艺规范。 规格。无论您是需要高速率和高产能、高均匀性和目标利用率,还是需要两者之间的完美平衡,我们都将确保 Angstrom Advantage™ 能够优化您的工艺。 我们都将确保 Angstrom Advantage™ 针对您的工艺进行优化。 无论您是需要定制磁控管、安装硬件、法兰、快门组件、气体歧管,还是需要完整的真空室,Angstrom Sciences 都能满足您的需求。 真空室,Angstrom ...
Angstrom Sciences, Inc.
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... 在 Angstrom Sciences,我们设计、设计和制造世界上最先进、最可靠的磁控溅射阴极。我们为产品质量提供业界最长的 2 年工艺和材料保修服务。 我们还致力于确保您的磁控管在整个使用寿命期间具有最高质量的性能。因此,我们为您在 ONYX® 或其他磁控管组件上遇到的任何紧急情况或维护需求提供全面的维修和改造服务。 -源拆卸 -机械和电气损坏检查 -配合和公差检查 -更换 O 形环 -螺钉更换 -全面清洁 -磁铁检查:封装、清洁和测绘 -重新组装 -测试:真空、电气和水(提供测试表) -更换水管和电线(如有必要) ...
Angstrom Sciences, Inc.
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... 旋转磁控管是圆形磁控管的变体,其中的磁铁组围绕中心轴进行机械旋转。这种装置最初是为半导体应用而开发的,能以尽可能小的阴极直径对固定基板进行均匀镀膜。这项技术的其他应用还包括重新沉积在靶面上的材料会在生长的薄膜中产生缺陷的情况;在旋转磁控管中,整个靶面都会被转速在 20 到 600 RPM 之间的磁铁组扫除干净。 Angstrom Sciences 提供一系列旋转磁控管,直径从 4 英寸(100 毫米)到 16 英寸(406 毫米)不等,设计有可调磁铁配置,可实现工艺优化和均匀性增强。我们的磁控管可安装在内部或外部。 旋转式磁控管可在不移动基片的情况下提供出色的均匀性。 ...
Angstrom Sciences, Inc.
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... Angstrom Sciences 因其为磁控溅射应用带来的尖端技术而享誉全球。现在,我们已经开发出一种方法,可将您现有的 BOCCT / HRC / HLK、CVC、圆柱形、MRC 和任何其他 OEM 阴极改装为我们获得专利的异型磁铁设计,从而为您的工艺带来 Angstrom Advantage™。利用我们的设计和先进的建模能力,我们可以设计出性能更高的产品,提供更好的靶材利用率、更高的均匀性和更少的微粒污染。 Angstrom Sciences 致力于通过提供世界上最先进的磁控管、高质量沉积材料和全面的技术支持,帮助客户开发最具生产力和成本效益的薄膜应用。 我们随时准备确保您的满意。因此,我们为所有磁控管提供业内最长的两年保修服务。 ...
Angstrom Sciences, Inc.
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... 间接冷却磁控管在圆形阴极冷却水和溅射靶之间有一个中间壁。这种中间壁可形成永久性的水-真空密封,防止靶材被 "溅射穿 "而发生泄漏。 Angstrom Sciences 的 1 英寸至 4 英寸(25 毫米至 100 毫米)间接冷却式圆形磁控管采用螺纹式靶夹和阳极屏蔽,可调节以适应不同厚度的溅射靶。螺纹设计上的靶件更换快捷方便,无需辅助工具或装置。 此外,螺纹式靶夹和阳极罩还能形成一个紧凑的圆形磁控管头。这样,Angstrom Sciences 的圆形磁控管就可以安装在狭小的真空室中,与传统磁控管相比,它可以溅射更大表面积的基片。 间接冷却磁控管推荐用于低功率应用,是研究和开发应用的理想选择。 有关间接冷却磁控管的更多信息,请致电 ...
Angstrom Sciences, Inc.
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... 对于需要基片长时间暴露在高热环境中的应用,Angstrom Sciences 的高温圆形磁控管采用陶瓷绝缘体和真空密封进行了优化,使阴极能够在高热条件下保持性能参数。高温设计可在 200、300 和 450 摄氏度下运行。 高温圆形磁控管专为 10-9mTorr 范围内的基本压力而设计,并经过专门设计,可在整个热循环过程中承受可能出现的变化,而不会出现泄漏或薄膜质量偏差。 ...
Angstrom Sciences, Inc.
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... 我们最大的内部安装端组,SC 可处理高达 4000 mm 的目标,额定功率高达 200 kW 直流或 80 kHz MFAC。 SCI 内部安装端块具有高可靠性和简单易于维护的设计。 单端配置减少了旋转和静态密封件的数量,这是旋转阴极中最常见的失效模式之一。 我们独特的灌水和排水功能可以改善目标冷却和在冲击时全排水目标水。 这种设计消除了端块内部电镀腐蚀的可能性,从而导致漏水和短路。 溅射部件的 SC 端块可安装在任何新的涂层机上,也可轻松替换其他旋转端块或平面系统。 ...
Sputtering Components
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... 我们最新的产品 CMC 是 MC 的更薄版本,是我们的中型内部安装端块。 CMC 可处理高达 2500 毫米的目标,额定功率高达 100 kW 直流或 80 kHz MFAC。 SCI 端块具有高可靠性和简单易于维护的设计。 单端配置减少了旋转和静态密封件的数量,这是旋转阴极中最常见的失效模式之一。 我们独特的灌水和排水功能可以改善目标冷却和在冲击时全排水目标水。 该设计消除了端块内部电镀腐蚀的可能性,从而导致漏水和短路。 溅射部件的 CMC 端块可以安装在任何新的涂层机上,也可以轻松取代 ...
Sputtering Components
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... TC 系列内部端组采用最紧凑的设计,采用独特的输电技术。 TC 可处理高达 1500 毫米的目标,额定功率为 40 千瓦直流或 80 千赫 MFAC。 SCI 内部安装端块具有高可靠性和简单易于维护的设计。 单端配置减少了旋转和静态密封件的数量,这是旋转阴极中最常见的失效模式之一。 我们独特的灌水和排水功能可以改善目标冷却和在冲击时全排水目标水。 该设计消除了端块内部电镀腐蚀的可能性,从而导致漏水和短路。 溅射组件的 TC 内部安装端块可以安装在任何新的涂层机上,也可以轻松地替换平面系统。 ...
Sputtering Components
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... MM 是我们的中等尺寸外部安装端板。 它可以处理高达 2500 毫米(支持)的目标,额定功率高达 100 kW 直流或 80 kHz MFAC。 MM 系列外部安装端块采用与我们的 MC-系列端块相同的专利技术,在紧凑的设计中提供出色的价值、性能和可靠性 特点可 定制的驱动轴长度 紧凑且灵活的设计方 便使用的水封盒获得专利的供电技术 专利的目标注水和排水 简单的设计,减少部件的部件, 磁铁棒外部调节到任何角度 优势 比内 部端块更宽的衬底覆盖范围适合大多数腔室设计。目标更换 高包装密度;350 ...
Sputtering Components
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... CM 是我们最紧凑的外部安装端组。 它可以处理高达 1000 毫米的目标,额定功率高达 20 千瓦直流或 80 千赫 MFAC。 CM 外部安装端组结合了高性能和可靠性,结合了非常紧凑和轻量化的设计。 特点 可定制的驱动轴长度 紧凑灵活的设计方 便使用的水封筒 专利的电力输送技术 专利的目标灌水和排水 简单的设计,减少部件 磁铁棒外部调整到任何角 度基板覆盖范围比内部端板 适合大多数腔室设计。 所有公用设施均为外部设 备,并在目标转换期间保持连接高包装密度;220 ...
Sputtering Components
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... 我们最大的外置式端块,SM可以容纳最大4000毫米的目标(支持),其额定功率可达200千瓦直流或80千赫MFAC。 它采用与我们的内部端块相同的专利技术,以提供突出的价值、性能和可靠性,但具有更广泛的基板覆盖面和可定制的驱动轴长度。 型式。 简单的单端设计,如果需要快速更换靶子,可提供外置支持,可靠性高,易于维护;适用于125毫米内径靶。 功率(最大):200 kW DC或MFAC。 V/A: 1500 V / 450 A 目标长度(最大):4000毫米 维护。 可在您的日程表上和您的设施中自己动手;提供指导视频。 端块可以在连接外部公用设施时保持安装。 典型要求: - ...
Sputtering Components
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... 借助 Swing CathoDetM 端块,磁铁组可以在独立于旋转目标管的可编程旋转轴中摆动,使其成为显示或 3D 零件涂层的理想系统。 Swing CathoDetM 采用与其他端块相同的专利技术,在紧凑的封装中提供出色的价值、性能和可靠性。 特点设 计用于使用客户可编程的磁铁包摆动运动涂层静态基板可 定制的驱动轴长度 紧凑灵活的外形尺寸 易于访问的水密封盒 简单的设计-更少的部件获得 专利的目标水填充/排水功能 非常适合显示器或 3D 部件涂层, 高填充密度;400 ...
Sputtering Components
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... SIDABRE 开发具有平面和圆柱形几何形状的单磁控和双磁控,可作为单独的组件或部件集成到系统中。 这些设备可配备特殊功能,例如夹紧或粘合目标、直接或间接冷却以及外部或内部电源和冷却水连接。 矩形和圆柱形目标的最大可用长度为 2.0 米, 圆形目标的最大可用直径为 400 毫米。 根据特定工艺的要求,我们开发不同类型的圆柱形可旋转磁控子,在目标或磁铁上进行旋转。 我们的真空涂层系统配备了必要的手段,通过定制的解决方案来满足客户的特殊需求。 SIDRAMBE ...
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... 主要 用于线性加速器的机械调谐脉冲磁控管。 频率范围 (冷却水 40 ˚) -2993 至 3002 兆赫 峰值输出功率-2.0 兆瓦 磁体-独立 输出-至 10 号(WR 284 波导)(72.14 x 34.04 毫米内部) 冷却-水 ...
e2v scientific instruments/美国Teledyne
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