玻璃保护层涂覆机

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连续涂覆机
连续涂覆机
HCTE-VCM-001

... 产品介绍: 磁控溅射镀膜机是一种利用磁场和溅射技术在基片表面沉积薄膜的设备。它由真空室、溅射靶材和基片支架等部件组成。工作时,在真空环境中,通过惰性气体离子对靶材料的冲击,靶材料的原子或分子被溅射并沉积在基片上形成薄膜。这种设备应用广泛,涉及光学、电子和半导体等领域。它具有薄膜质量高、均匀性好、可控性强等优点,可为各领域的薄膜制备提供强有力的支持。 ...

卷绕涂覆机
卷绕涂覆机
HCTE-VCM-002

... 功能: 缠绕式涂布机的功能在于可以在各种基材上均匀涂布,提高材料性能,精确控制涂层厚度,提高生产效率,适用于多种基材,保证涂层质量,实现特殊功能,还可以节约成本,为涂布工艺带来诸多优势。 ...

溅射涂覆机
溅射涂覆机
HCTE-VCM-004

... 产品介绍: 硬质涂层喷涂机是一种专门用于制备硬质涂层的设备。它采用先进的涂层技术,可在各种基材表面沉积具有高硬度、高耐磨性和优异性能的涂层。 这种镀膜机通常由多个关键部件组成,包括真空系统、溅射源或蒸发源、基片处理装置等。通过精确控制这些部件的工作参数,可以实现对涂层厚度、成分和结构的精确控制。 硬涂层镀膜机的应用非常广泛。在工业领域,它可以为工具、模具等提供耐磨保护,延长使用寿命;在电子领域,它可以提高元件的硬度和耐腐蚀性。其涂层工艺具有很高的可重复性和稳定性,可满足不同领域对高质量硬涂层的需求。 此外,该设备还具有操作简便、自动化程度高等特点,可提高生产效率,确保涂层质量的一致性。 ...

卷对卷型涂覆机
卷对卷型涂覆机
PAK+ series

... 全新 LYEBOPTICS PAK + 系列将铝涂层应用于各种解决方案的柔性基材,以无与伦比的速度实现最大输出。 使用莱博尔光学 PAK + 真空涂层机,工艺速度可以比传统系统提高 25% 以上。 除了克服设计坚固、高速生产机器的技术挑战外,还开发了操作人员友好的工艺站,并在金属化过程中成功对基材进行热管理。 该机器的设计允许操作简单直观,即使是真空涂层系统的新手。 LYEBOLE OPTICS PAK + 系列生产的柔性涂层基板有三个主要应用领域。 这些涂层因层厚度而异:非常薄的涂层,例如用于建筑玻璃板之间夹层的涂层、用于食品包装的中等厚度,以及通常用于高感光电子产品包装的厚涂层。 ...

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Bühler Leybold Optics
溅射涂覆机
溅射涂覆机
GLC series H

... LYEBOPTICS GLC 系列 H 是一款专为建筑玻璃涂层需求而设计的水平内联溅射涂层工具。 凭借其独特的隔层设计,LYEBLD OPTICS GLC 系列 H 非常适合具有挑战性的层叠和灵活的产品混装。 典型涂层包括太阳能控制、抗反射、单、双和三重低发射率(低 e)以及太阳能控制涂层。 LYEBLOD OPTICS GLC 系列 H 适用于标准美国和巨型基材尺寸,可配置在尺寸高达 3,3 m * 15,6 m 的玻璃上涂层, 先进的技术确保低生产成本 先进的间隙控制允许最大利用和经济地利用目标材料, ...

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Bühler Leybold Optics
自动涂覆机
自动涂覆机
BK 700 LX

... 自动丁基涂装机,用于在隔架架的每一侧同时涂上测量丁基带,具有高效率和稳定的质量密封性能,非常适合大型生产 1990 年以来设计和制造完全在意大利的工厂内,这款机器结合了轻松性 我们的丁基挤出机在 20 多年后仍处于工作状态,可靠性和耐用性得到了验证。 该丁基挤出机易于使用,工作速度快,并且有机会同时工作方形和弧形框架,使该丁基挤出机成为希望生产 IG 玻璃的中型和大型玻璃器皿的理想机械。 所有设置,如工作速度,温度,压框激活,喷嘴距离等,都可以从主面板控制,而丁基的预热可以通过数字定时器手动或自动编程。 ...

自动涂覆机
自动涂覆机

... 金属、陶瓷、玻璃的真空镀膜和金属化设备。 产品说明 系统摘要 电弧放电。电弧或电弧放电是气体的电击穿,产生持续的放电。电流通过空气等通常不导电的介质产生等离子体;等离子体可能产生可见光。弧光放电的特点是电压比辉光放电低,它依靠支持电弧的电极的电子热发射。 多电弧离子涂层可以以多种颜色沉积。在沉积过程中,通过将活性气体引入室中,可以进一步提高颜色的范围。装饰性涂层最广泛使用的反应性气体是氮气、氧气、氩气或乙炔。产生的装饰性涂层在一定的颜色范围内,取决于涂层中金属与气体的比例和涂层的结构。这两个因素都可以通过改变沉积参数来改变。 在沉积之前,要对零件进行清洗,使其表面没有灰尘或化学杂质。涂层过程开始后,所有相关的工艺参数都由计算机自动控制系统连续监测和控制。 - ...

自动涂覆机
自动涂覆机

... 它是一种适用于用浸拉法制备薄膜的高精度仪器。浸拉法是溶胶-凝胶法(简称 SG 法)制备薄膜的常用方法之一。采用优质配件,精确控制拉拔速度,重复涂布无位置偏差。拉拔速度、拉拔高度、循环涂布时间、浸渍时间、下降速度和停留时间均可由程序精确控制。适用于玻璃、Si (100)、Si (111)、蓝宝石(Al2O3)、陶瓷和树脂基底等常见基底。 ...

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