表面处理等离子体光源

安装在真空室内产生高密度等离子体的等离子体源。利用和真空蒸镀结合的等离子体辅助沉积技术（离子镀），能提高光学薄膜、保护膜、功能膜等的薄膜特性。另外，还可以用作等离子处理如对清洗基板和表面改性也很有效。 产品特点 安装在真空室内产生高密度等离子体的等离子体源。利用和真空蒸镀结合的等离子体辅助沉积技术（离子镀），能提高光学薄膜、保护膜、功能膜等的薄膜特性。另外，还可以用作等离子处理如对清洗基板和表面改性也很有效。 主要特点 ...

... 用于原子氧和原子氮的 RF Atom 源通过 优化的设计最大限度地减少功率损失 放电区由高品质材料制成，确保光束 零离子电流配置的污染最小化。 高品质复合材料的成长 理想情况下需要中性，原子物种。 而氧气或氮气等分子气体的反应性比分解成原子形态的反应性要小一个数量级。 因此，使用分子氧形成氧化物通常需要较高的温度和/或较长的氧化期，而分子氮对许多材料几乎没有反应。 因此，分离物种的反应性增加了许多数量级，因此允许在低压和合理的基底温度下种植氧化物或氮化物。 ...

... Tru...sma DC 3000 系列（G2）适用于多种直流溅射工艺，包括用作脉冲工艺电源的替代品。这是因为渐进式电弧管理可保证最佳的镀层质量，并显著提高产量。由于水冷直流发生器的设计极为紧凑，因此可以非常容易地集成到您当前的应用中。 同类产品中电弧能量最低 < 0.3 mJ/kW 的残余能量保证了最佳的镀层质量和高沉积率。 高功率密度 设计非常紧凑（19 英寸插入式装置），即使功率较大，也能轻松集成。 功率范围广 输出功率从 20 千瓦到 300 千瓦不等，因此也可用于替代大型发电机。 完全水冷 可延长系统运行时间并减少维护。 系统集成简单 可变线路电压（400 ...