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... EVG® 610 是一种紧凑、多用途的研发系统，可处理高达 200 毫米的小型基板和晶圆。 EVG610 支持各种标准光刻工艺，如真空、硬、软和接近曝光模式，并提供背面对齐选项。 此外，该系统还提供额外的功能，包括键对准和纳米压印光刻 (NIL)。 EVG610 提供快速处理和重新工具，以满足不断变化的用户需求，转换时间不到几分钟。 其先进的多用户概念可以从初学者到专家级别进行调整，从而使其成为大学和研发应用的理想选择。 特点： 晶圆/基板尺寸从件到 200 毫米 ...
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