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AlO+SiN薄膜沉积。 • 原子层沉积工艺特性，成膜均匀性好。 • 同机台或同管完成多层膜沉积，减少工艺环节，有效提升良率、降低碎片率。 • 自主研发液态源前驱体蒸气输送与前驱体快速切换技术。 • 适应不同前驱体、不同材料钝化层沉积，工艺拓展空间大。
采用热单原子层沉积(Thermal ALD)方式在晶质太阳电池晶圆正面蒸镀 Al2O3薄膜，形成保护层(Passivation Layer)，从而进一步改善效率的设备 规格 高通量：12,800片/小时 (1,600片/舟) 周期：30分 运行时间：97%
... 14A - 9kW 远程等离子体 源 - 频率：1.7 - 3MHz 功率：3000W 原地射频 电容式 等离子体源 - - 标准 可加工的 材料 - Parylene:C, D, N, F-VT4, F-AF4 ALD: Al 2 O 3 , TiO 工艺 温度 - 对二甲苯：室温 ALD: 60 - 80°C ...
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