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光学显微镜 ZEISS Axio Imager 2
用于研究工业用于材料

光学显微镜 - ZEISS Axio Imager 2 - ZEISS Métrologie et Microscopie Industrielle - 用于研究 / 工业 / 用于材料
光学显微镜 - ZEISS Axio Imager 2 - ZEISS Métrologie et Microscopie Industrielle - 用于研究 / 工业 / 用于材料
光学显微镜 - ZEISS Axio Imager 2 - ZEISS Métrologie et Microscopie Industrielle - 用于研究 / 工业 / 用于材料 - 图像 - 2
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产品规格型号

分类
光学
专业应用类型
用于研究, 工业, 用于材料
观测技术
激光扫描共聚焦
其他特性
自动化, 模块化, 机动
倍率

最多: 100 unit

最少: 1 unit

重量

18 kg, 40 kg
(39.7 lb, 88.2 lb)

长度

721 mm
(28.4 in)

宽度

300 mm, 390 mm
(11.8 in, 15.4 in)

高度

505 mm
(19.9 in)

产品介绍

在您从事先进的材料研究时,Axio Imager 2可帮助简化光学显微镜工作流。蔡司Axio Imager 2能够对材料生成准确且可重复的结果。选择适合您应用的系统,使用颗粒分析等专用共聚焦或关联显微镜解决方案扩展您的设备。 可重复的结果 模块化设计​ 高光学性能 可重复的结果​ 享受无振动的工作环境​ 如要获得准确的结果,稳定性必不可少。Axio Imager 2具有稳定的成像条件,而在使用高放大倍率或进行对时间有高要求的研究时,该特性更为显著。Axio Imager 2的电动化设计可以获得快速且可重复的结果,同时始终在恒定条件下工作。 模块化设计​ 获得更大的灵活性​ 无论是学术还是工业研究,材料显微镜都面临着各种各样的挑战。借助Axio Imager 2,您将能够直面并战胜这些挑战。您可以连接特定于应用的组件,进行颗粒分析等工作,也可以检测非金属夹杂物(NMI)、液晶或基于半导体的MEM。借助专用共聚焦或关联显微镜解决方案,您的设备功能将得到扩展。 高光学性能 实现出色衬度和分辨率 使用不同观察方式观测金属、复合材料或液晶等一系列材料。 ​ 使用反射光,在明场、暗场、微分干涉相差(DIC)、圆微分干涉相差(C-DIC)、偏光或荧光下观察样品。 ​ 使用透射光,在明场、暗场、微分干涉相差(DIC)、偏光或圆偏光下检测样品。观察方式管理器能确保照明设置可复制。 观察方式选择​ 球墨铸铁,抛光样品,使用不同观察方式在相同位置成像(观察视野265 µm)。图像:由德国凯瑟尔斯多夫的H.-L. Steyer博士提供。

PDF产品目录

* 显示价格为参考价,此价格不含税、不含运费、不含关税,也不包含因安装或投入使用所产生的其他额外费用。参考价格可能因国家、原材料价格和汇率的不同而产生变化。