氮化硼坩埚

在半导体制造过程中，氮化硼可用作蚀刻剂和薄膜沉积原料，作为保护层防止设备损坏或污染。 此外，氮化硼还可用作制备各种薄膜材料的电子束蒸发源材料。 例如电子束蒸发涂层导电氮化硼坩埚（BN 坩埚）--用于薄膜沉积设备。 导电氮化硼坩埚是专为电子束蒸发涂层设计的高纯度光滑坩埚。 它具有优异的耐高温和热循环性能，不会与各种金属和陶瓷稀土发生反应。 即使在快速加热和冷却的条件下，坩埚也能保持完好无损。 它可用于合金熔炼、稀土和陶瓷烧结以及电子束蒸发涂层。 它常用于热蒸发工艺，如高频感应加热、涂层、电子束蒸发涂层、镀铝和镀硅。 导电氮化硼坩埚具有高纯度、高光洁度和优异的电子束蒸发涂层性能。 它们能提高蒸发率、加快材料转换、改善热稳定性并降低功率要求，最终提高生产率和成本效益。