MOCVD镀膜机 TurboDisc EPIK 868

溅射薄膜旋转阴极式

最大的资本效率和占地面积节省，提供领先的性能 Veeco 的 EPIK® 868 是 LED 业界最高性能的金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 系统，可实现出色的均匀性和可重复性，以及低缺陷率。EPIK 868 拥有四反应腔配置并采用突破性技术，包括专有的 IsoFlange™ 和 TruHeat™ 技术，其可在整个晶片载体上提供层流和均匀的温度曲线。这些技术创新推动了迷你和微型 LED 所需的更高产量。EPIK 固有的 868 TurboDisc® 技术可实现最高的系统可用性和正常运行时间。EPIK 868 高容量承载盘专为大批量生产设计，可以最低的拥有成本容纳多个 4”或 6” 晶片尺寸。客户可以很轻松地从现有的 TurboDisc 系统切换到新的 EPIK 868 金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 平台，从而快速启动高品质迷你和微型 LED 的生产。 出色的均匀性与低缺陷率 紧凑型集群架构 高吞吐量体系结构，实现最大生产