离子源 RF

12 厘米 RF 离子源 设计用于改进长时间离子束沉积工艺生产 利用 Veeco 12 厘米 RF 离子源改进长期连续反应性工艺的性能和质量，例如高度控制的光学镀膜的离子束辅助沉积或离子束沉积。它具有业界唯一的无灯丝 RF 中和器，其维护工作少，支持长时间的运行。12 厘米 RF 离子源非常适合于使用含 100% 氩气、氧气或其他反应性气体的工艺。 可支持的操作条件范围广泛：50 到 1500eV，50 到 500mA 在惰性和氧化环境中均能实现可靠一致的操作 用水冷却，适用于低至中等功率运行 稳定高效的等离子体操作具有精确控制能力并允许高重复性 非常适合于负载锁定生产工艺