用于光学镀膜的 SPECTOR Loadlock 离子束溅镀系统
出色的生产量和可重复性,应用范围十分广泛
Veeco 的 SPECTOR® Loadlock 离子束溅镀系统能够在多种应用场合显著提高产量。SPECTOR Loadlock 系统可以在加载基底后 5 分钟内迅速开始沉积,使沉积时间少于批量工具通常所需的预处理时间,从而轻松实现了生产量的成倍增长。
成功地维持了工艺参数(如压力、温度、目标曲面组成和离子源动力)的稳定状态,同时增强了系统的可重复性。对于较少暴露在空气和湿度下的组件,如无线电频率中和剂、生长室衬垫和屏蔽等,SPECTOR Loadlock 用户可以享受较长的平均维护时间间隔 (MTBM)。凭借这些特点和优势,用户能够以低廉的成本,生产出市场上精度最高的优质薄膜。
中/低厚度镀层应用场合的生产量显著增加
凭借本身更加稳定的工艺条件,改善了系统的可重复性
多个关键组件的平均维护时间间隔更长
微粒控制功能得到改进