PVD镀膜机 NEXUS PVD-1

热蒸发薄膜用于光电技术

NEXUS PVD-1 物理气相沉积系统 适用于多种应用且简单易用的多功能工具 Veeco NEXUS PVD-1 单晶片物理气相沉积模块提供所需的简单性、可靠性和性能。该系统兼容各种晶片尺寸，可定制用于多种数据存储应用场合（例如氧化物和氮化物沉积）和磁性材料。它还为半导体、GaAs 和封装应用场合提供了高性能、低成本工具。 轻松配置可满足特定加工和生产需求 支持从 3 英寸到 8 英寸的圆形晶片尺寸 标准附件包括阴极、晶片夹头、气体多支管、快门和泵包装 模块化降低了操作员和维护人员培训要求以及备件库存 经过设计可与 NEXUS 离子束蚀刻、离子束沉积和其他物理气相沉积工具进行快速简单的集成