离子溅射源

16 厘米 RF 离子源 适用于高度反应性工艺的宽且均匀的 RF 离子源 Veeco 为反应性工艺（例如高度控制的光学镀膜的离子束辅助沉积或离子束沉积）提供宽而均匀的离子束源。 可支持的操作条件范围广泛：50 到 1500eV，75 到 700mA 在惰性和氧化环境中均能实现可靠一致的操作 用水冷却，适用于低功率到高功率运行 可选的 4 网格设计提供了非常高的准直性 它具有业界唯一的无灯丝RF 中和器，其维护工作少，支持长时间运行 稳定高效的等离子体操作具有精确控制能力并允许高重复性 非常适合于负载锁定生产工艺