描述
VARIO®DUO真空系统是由两个独立的VARIO®真空系统组成,在进气口端并行连接,并通过一个CVC 3000控制器同时进行操控。真空条件可精确控制。两个独立真空泵的转速可以根据真空需求精确控制。控制器即可实现不需要用户预设的全自动蒸馏,又可以进行特定的、可重复地程序编程。可以通过数字或模拟界面集成到已有的控制系统中。超高的耐化学腐蚀的特性为化学和制药领域提供了极佳的解决方案 - 不需要水或者油等运行介质。
性能特性
整个过程真空度自动调节,过程稳定性高,操作过程无需过多干预
因其强大的真空泵,使过程时间很短,即使针对很大的气载量仍能提供精确的(无滞后)真空控制
可移动的CVC 3000真空控制器,安装灵活,多语言菜单,操作简单,采用数字或模拟接口便于集成
膜片寿命极长,将操作成本和维修成本降到最低
超低能耗、无运行介质(水或油)及高效的溶剂回收系统,使其成为一款环境友好的产品