对于一台泵同时运行两个独立的真空应用需求,此款化学真空系统是一个既经济又有效的解决方案。基础泵是备受欢迎的MD 4C NT三级隔膜泵,PC 620 select常用于含高沸点溶剂的真空应用。该泵能够同时搭配两个独立的真空应用使用。
两个电子真空控制端口都内置单向止回阀,能够防止交叉污染互相影响。集成式的VACUU·SELECT真空控制器采用直观、基于应用程序的用户界面,覆盖了所有实验室常见真空应用。VACUU·SELECT真空控制器可满足您所有要求。对于简易实验过程可手动修改控制参数,直接蒸馏,或者通过简单的“拖放”操作编辑创建自己的应用程序。在溶剂蒸发过程中,电子控制端口能持续监测压力,当溶剂沸点被探测到时切换至两点法控制,将压力维持在一个稳定的水平。进气口分离瓶由玻璃制成,外覆一层保护膜,能防止颗粒和液滴进入泵内,防止泵损坏,延长泵的使用寿命。当连接冷水管道或循环制冷机时,出气口废气冷凝器可以实现溶剂将近100%回收,从而实现循环经济和环境保护。
性能特性
- 配置图形用户界面的VACUU·SELECT真空控制器能简化实验室工作
- 预定义的应用程序能节省时间,并得到可重复的结果
- 简易操作的应用编辑器允许编辑一系列自定义真空应用
- 满足高真空需求,如绝大多数高沸点溶剂
- PC 620 select可以利用电子真空控制同时运行两个独立的真空应用