反应性过程气体监测系统-QULEE RGM 系列
此过程监测系统专为蚀刻、CVD 等各种应用而开发。 使用 ULVAC 原有的离子源和泵送系统,可以实现稳定的测量结果。最适合蚀刻/CVD仪器
长期稳定的测量结果,
闭合离子源利用磁场
软电离提供更少的气体解散和更高的灵敏度。
热反应引起的分解和吸附在电
离室中最小化。
具有 3 种不同气体入口模式的紧凑型电导阀,
工艺室与离子源之间距离短,可以
快速响应分析。
适用于过程监控的
压力范围从 1 × 10-6 到 13kPa(7.5 × 10-9 到 97.5 托拉,
1 × 10-8 到 130 毫巴)。
( 可选)
集成显示屏
无需电脑
简单操作
“一键式” 功能
烘烤
最大值 120 ˚ C (248 ˚ F) 高温烘烤
德加功能电子轰击脱气
保护和维护离子源和二次电子的保护和维护
分析管的乘数可追溯性(专利申请中)
各种泄漏
测试包括氦气泄漏测试、空气泄漏测试、泄漏
总压力测量
能够进行总压力测量(外部电离表(GI-M2)
Qulee QCS
包含此软件和 兼容(视窗XP/7)
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