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临界尺寸测量系统 MT2010VIS/UV厚度光学用于半导体
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产品规格型号
- 物理量
- 厚度, 临界尺寸
- 所用技术
- 光学
- 所测量的产品
- 用于薄膜, 用于半导体
- 其他特性
- 高精度
产品介绍
天准为掩模生产过程中的测量提供高精度、高重复性系统，适用产品包括但不限于COG和PSM。
针对掩模来料测量，天准提供长距离工作物镜。测量包括掩模版上CD的分布，同时系统提供可见光和紫外光照明，均可用于反射和透射模式。紫外光照明可用于测量最小300m的特征尺寸，3sigma
重复性通常在纳米范围内。
主要特点
•MaskÆ厚，CD测
•可配置可见光、紫外光、红外光
•SECS/GEM
•长期维护成本低，喼定可靠
