- 计量设备、实验室仪器
- 计量和测试仪器
- 临界尺寸测量系统
- TZTEK Technology Co.,ltd
- 产品
- PDF产品目录
临界尺寸测量系统 MT270UV光学用于半导体高精度
添加到我的收藏夹
添加到产品对比表
产品规格型号
- 物理量
- 临界尺寸
- 所用技术
- 光学
- 所测量的产品
- 用于半导体
- 其他特性
- 高精度
产品介绍
天准为掩模生产过程中的测量提供高精度、高重复性系统，适用产品包括但不限于COG和PSM。
针对掩模来料测量，天准提供长距离工作物镜。测量包括掩模版上CD的分布，同时系统提供可见光和紫外光照明，均可用于反射和透射模式。紫外光照明可用于测量最小300m的特征尺寸，3sigma
重复性通常在纳米范围内。
主要特点
•MaskCD测
•最大支持6寸掩模
•可配置可见光、紫外光，支持穿透和反射光
•SECS/GEM
•长期维护成本低，喼定可靠
