晶片双流体离心清洗机,又称晶片清洗设备、碲化铋晶片清洗机、
全自动双流体离心清洗机、半导体晶片清洗机。
全自动离心清洗机设备主要由以下部件组成:
清洗槽、喷淋清洗和漂洗系统、喷淋清洗槽、液体循环过滤系统、往复运动系统、
管路、控制系统 1 套、内置清洗腔工作台、水压气压监控、机架等。
为方便运输,机器底部装有万向活动脚轮和支撑脚。
半导体晶片清洗机是一种全自动清洗机。
清洗介质为两种流体(城市用水或纯净水和压缩空气)。
清洗介质为两种流体(市水或纯净水和压缩空气)。
清洗机工作时,操作员将待清洗的手板放在工作台上。
放好后,手动关闭前窗。确认关紧后,手动按下清洗按钮、
气动往复式移动喷淋清洗开始对工件进行清洗和冲洗。
时间一到,警报器就会提醒工作人员。工作人员取出托盘,完成整个清洗过程。
除装载和卸载外,整个清洗和冲洗过程都是全自动的,无需人工干预。
设备配有紧急停止开关,以便在紧急情况下迅速停止设备的运行。
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