直流脉冲等离子发生器 TruPlasma Highpulse 4000 (G2)

PVD

作为直流溅射发生器的替代产品，Tru...sma 高脉冲系列 4000 (G2) 发生器无需改动即可用于现有的磁控管系统。它们可提供高度耐腐蚀和耐磨的硬质材料涂层，因此是高功率脉冲磁控溅射应用的首选。 无可挑剔的涂层效果 无可挑剔的峰值功率高达 4 兆瓦，可产生具有高离子通量的极高等离子体密度。 可灵活使用 与现有阴极系统和工艺条件的简单匹配可实现最佳的设备集成。 HiPIMS 应用的首选 作为脉冲 PVD 溅射工艺的最新发展，HiPIMS 可提供特别耐腐蚀和耐磨的硬质材料涂层。 适用于各种应用 也可用于直流模式，无需额外的直流发生器。