激光放大器

射频光学数字

EUV 光刻作为数字时代的推动者 EUV 光刻是未来微芯片制造方法中的翘楚。多年来，半导体产业一直在寻找符合成本效益并且能批量处理的方法，以便借此在硅晶片上曝光更小的结构。ASML、Zeiss 和通快合作开发了一项技术，用以获得波长为 13.5 纳米的工业用极紫外光 (EUV)：在真空室内，液滴发生器每秒发射 50,000 个锡液滴。每一个液滴被 50,000 个激光脉冲中的一个击中并变为等离子体。由此产生 EUV 光，再通过反射镜将其引到需要曝光的晶片上。用于等离子体辐射的激光脉冲来自通快所开发的脉冲式 CO2-激光系统——通快激光放大器。 从几瓦到 40 千瓦 通快激光放大器将激光脉冲连续放大 10,000 倍以上。 高效和可靠加工 通过发出预脉冲和主脉冲可将激光放大器的全部功率传输至锡液滴。 CO2 激光器的新应用 处于连续波运行的 CO2 激光器是高性能激光系统的基础。通快以此创造了一项新的技术应用。 庞大的专家网络 经过多年的密切合作，通快、ASML 和 ZEISS 使 EUV 技术达到工业规模的成熟水平。