宽范围化学浴槽温度控制系统
板载温度控制单元;与切换式电源或电源/温度控制器配合使用,可替代远程冷水机。
低流量、单通道化学品温度控制
在湿式工作台上直接冷却工艺流体。
用于2-40升半导体化学槽
操作范围:-10°C至90°C
环境温度:-10°C至40°C,不冷凝
稳定性/重复性:-±0.05°C(典型配置)。
冷却能力:-550瓦(25°C,20°C设施水)。
加热能力: - 1500瓦(25°C,20°C设施水)。
加工液:-高达50%的HF溶液、有机溶剂、其他PFA特氟隆兼容液、电镀槽。
设施用水:-
2-4加仑/分钟(8-15升/分钟),10-35℃,过滤,处理。
循环设施冷却水,pH值:6.5至8.2。
工艺流体流速。 -
4-10加仑/分钟(15-38升/分钟),带平行流(4:1接头)。
0.5-2加仑/分钟(2-8升/分钟),带串联流量(低流量选项)。
最大压力:-
流程。90 psig
设施:100 psig
铁氟龙接头: - 3/4 "或1 "Flaretek,或铁氟龙管存根。
设施用水接头 - 3/8" 内螺纹 NPT
润物细无声。 -
加工工艺。HDPFA Teflon
设施。铁氟龙浸渍阳极氧化铝。
尺寸(长x宽x高):-。
17.5" x 11.25" x 4.65" (44.4 cm x 28.6 cm x 11.8 cm),带绝缘材料。
16" x 9.75" x 3.15" (40.6 cm x 24.8 cm x 8.0 cm),不含绝缘材料。
重量:-38磅(17公斤)
电源要求
(单独装置): - 开关量6600设置为0-144 VDC,0-12.5安培。
标准 - 半S2-0200,符合F47标准,CE标准
保修:-2年
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