真空镀膜系统 G4000MR

G4000MR 真空镀膜系统是一种生产规模的镀膜机，设计用于在包括天文主镜在内的大型光学产品上生产均匀的反射和保护涂层。 工程与技术 镀膜机的配置和沉积工艺的特点是专门为处理直径达 4 米的物品而开发的，由软件控制的小型磁控管沿着计算好的路径以可调节的速度运动。磁控管的移动速度与反射镜的旋转速度相匹配，以达到异常均匀的涂层厚度。镜面朝下，在循环过程中旋转数次。 G4000MR 用于沉积铝、银和其他金属的反射涂层。反射涂层顶部的氧化硅层可确保涂层堆的耐磨保护特性。在涂层沉积之前，镜面要经过可移动离子源的等离子处理，以确保良好的附着力。涂层采用金属和反应磁控溅射工艺沉积。环形磁控管由脉冲直流电源供电。石英晶体谐振器组成的装置用于控制生长薄膜的沉积速率。 镀膜所需的真空由冰箱低温泵和连接罗茨鼓风机和干式压缩泵的涡轮泵提供。 控制系统确保整个过程完全自动化。 镀膜机和镀膜工艺可根据客户要求定制。 基片：大型天文玻璃陶瓷镜 基片直径：最大 4 米 基片数量1 块