卷对卷型涂覆机

PECVD 生产规模涂层机 应用 等离子体增强 CVD 非晶氢化硅在金属箔上的 p-i-n 串联堆叠, 用于生产太阳吸收多层. 工程与技术 PECVD 涂层系统是一个卷对卷式生产工厂，专为最大 1340 毫米宽金属箔的单侧真空涂层而设计。 沉积区由气密体积内的一个或多个射频电极组成，并配置为向上沉积。 沉积区的特殊配置可防止交叉污染。 基材在涂层沉积前预热，在沉积过程中加热，并在涂层后冷却。 箔上的温度梯度不超过 4 OC/ 厘米。 通过热电偶和红外传感器监测电气设备、曲面板和基板上的温度。 基板由加热的弯曲板机械支撑。 弯曲板由几个部分组成，曲率半径为 10 米。 不可逆转的卷绕系统确保最佳的张力和箔处理，而不会刮伤和皱纹。 泵送系统由机械增压泵和干式粗加工泵组成。 射频区具有独立的节流泵管路，可在每个区域内独立改变气体流量和压力。 两级服务平台、可移动室门和射频电极确保维护简单。 控制系统采用模块化概念，可轻松扩展控制软件。 数据表 基板：金属箔 基板宽度：最高 1340 毫米 基板厚度：50... 100 微米 最大辊直径：最高 820 毫米 涂层：A-Si：H 绕组速度：0.05... 0.5 米/分