PVD镀膜机 RTSP1200

磁控溅射薄膜用于电子元件

在陶瓷介质滤波器上进行 PVD 直接镀银是一种先进的涂层技术，可用于 5G 基站和其他电子工业半导体。其中一个典型应用是陶瓷辐射基板。通过 PVD 真空溅射技术在氧化铝（Al2O3）、氮化铝（AlN）基板上沉积银/铜导电膜，与传统的制造方法相比，具有很大的优势：DBC LTCC HTCC 生产成本更低。皇家技术团队与客户合作开发的 PVD 镀银工艺成功应用了溅射技术，可取代传统的液态刷银工艺。