PVD镀膜机 CsI950

电弧蒸发金属化膜真空

CsI950 高真空镀膜系统专门设计用于在极高真空环境下在闪烁屏上进行 CsI 和 TII 金属化。铯闪烁体的厚度范围为 200～600µm，厚度均匀性和亮度性能都很高： 超高成像空间分辨率； 响应速度快，成像更清晰； 一流的边缘到边缘成像区域； 光学吸收层或反射层； 患者 X 射线剂量低。 应用基板：TFT 玻璃、光纤板、非晶碳板、铝板 应用：用于安检和检查、高能物理教育、核辐射检测和医学成像：胸部检查、乳腺造影、牙科口腔和全景。 技术优势 皇家技术公司提供两种型号的设备： CsI950 和 CsI950A+ CsI950A+ 型是在第一代 CsI950 基础上更新的，其优点如下 1.效率 -CsI-950A+ 型在第一代 CsI-950 型的基础上采用了双旋转机架结构。 -最大基板尺寸的双倍容量：500 x 400 毫米。 2.重复性和再现性 -通过高精度参数控制系统、 -自动化过程控制软件和程序、 -操作简便。 3.可靠性 -全天候不间断运行； -Inficon 薄膜厚度控制器可在线监测薄膜厚度。 -温度控制精确度：±1 ℃，多级设置，自动温度数据记录和控制 -旋转机架配备伺服电机，精度高，稳定性强。