PVD镀膜机 RTAS1000

磁控溅射薄膜真空

磁控溅射被广泛用于沉积难熔金属，如钽、钛、钨、铌，这将需要非常高的沉积温度，以及贵金属。金和银，也可用于低熔点金属如铜、铝、镍、铬等的沉积。 钽因其良好的抗侵蚀性，在电子工业中最常被用作保护涂层。 应用。 1.微电子工业，因为薄膜可以被反应性溅射，因此电阻率和电阻温度系数可以被控制。 医疗器械，如身体植入物，因为它具有高度的生物相容性。 耐腐蚀部件的涂层，如热电偶套管、阀体和紧固件。 如果涂层是连续的、有缺陷的，并且粘附在要保护的基体上，溅射钽也可以作为一个有效的耐腐蚀屏障使用。 技术优势 1.采用标准化的小车，可以方便安全地将基片支架和工件装入/卸出沉积室。 2.该系统是安全联锁的，以防止错误的操作或不安全的做法。 3.基片加热器安装在沉积室的中心，采用PID控制的热电偶，以提高冷凝膜的附着力。 4.强大的真空泵配置，磁悬浮分子泵通过闸阀连接到腔体；以Leybold的罗茨泵和两级旋片泵、机械泵为后盾。 5.该系统采用高能电离等离子体源，以保证其均匀性和密度。