PVD镀膜机 RT-R2R-SP
磁控溅射离子束辅助疏水薄涂层

PVD镀膜机
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产品规格型号

方法
PVD
所用技术
磁控溅射, 离子束辅助
镀层类型
疏水薄涂层
其他特性
真空
应用
微电子行业, 光伏应用, 用于光伏模块, 用于光电技术, 用于冷凝器, 用于导电膜

产品介绍

我们很高兴为您推荐 MultiWeb 系列卷对卷真空溅射卷材镀膜机,以满足您的多层沉积要求。 低辐射薄膜卷绕镀膜机 应用:电子纸、柔性电路、光伏、医疗带、RFID(射频识别)和低辐射薄膜。 沉积薄膜 1.基底材料PET、PEN、PES、PI、PC、PA...薄膜 2.基底厚度:15~300μm 3.沉积方法交流反应法用于二氧化硅(介质);脉冲直流法用于 ITO(金属和导体) 4.氧化物导体 TCO:ITO、AZO、IZO... 5.金属导体铝、铜、钼、银 6.光学薄膜Ta2O5、Nb2O5、SiO2、TiO2... 7.半导体氧化锌、InGaZnO... 8.绝缘体SiO2, SiNx, AlOx, AlNx... 9.均匀性: ±5% 跨网 多网镀膜机具有以下主要特点: A.一个腔室分为多个压力区,以适应各种沉积源。 B.多源同时沉积功能,可在一个卷筒纸通道上进行多层涂层。 C.卷筒纸卷绕方向可逆,可在不破坏真空的情况下进行无限层沉积。 D.带边缘导向装置的精密卷筒纸处理机制,允许多次通过而不失准。可选 E.交流反向卷筒纸驱动系统,可精确控制多种卷筒纸速度。 F.在线光学和/或电阻厚度监测系统,可精确控制沉积厚度和均匀性。可选

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* 显示价格为参考价,此价格不含税、不含运费、不含关税,也不包含因安装或投入使用所产生的其他额外费用。参考价格可能因国家、原材料价格和汇率的不同而产生变化。