PVD镀膜机 RTSP1000-Tantalum

磁控溅射薄膜真空

PVD磁控溅射技术广泛用于沉积难熔金属，如钽、钛、钨、铌，需要很高的熔点， 贵金属：金,银，也用于沉积较低熔点的金属，如铜、铝、镍、铬等。 钽由于具有良好的抗侵蚀性，在电子工业中被用作保护涂层。 溅射钽薄膜的应用 1. 微电子工业作为薄膜可以反应溅射，从而可以控制电阻率和电阻温度系数； 2. 医疗设备配件，如人体植入物，因为它具有很高的生物相容性； 3. 在耐腐蚀部件上的涂层，如热罩、阀体和紧固件； 如果涂层是连续的、有缺陷的，并且附着在基材上，则溅射钽涂层也可以用作有效的耐腐蚀屏障。 RTSP1000 设备技术优势 1. 采用标准化的手推车，使工件转架和工件可以推进推出腔体，易于安全地装载/卸载 2. 操作系统是安全联锁的，以防止不正确的操作或不安全的做法对设备造成损失，保护操作人员的安全 3. 基板加热器安装在室内中心，PID控制热电偶，具有较高的精度，以提高膜基结合力 4. 强大的真空泵配置与磁悬浮分子泵通过闸阀连接到室； 5. 采用高能阳极层线性离子源，提高结合力，并且应用辅助沉积工艺使膜层致密性更高。