PVD镀膜机 RTAS1612

磁控溅射电弧蒸发薄膜

RTAS 系列是一种集成式多沉积源设备，用于在金属零件、不锈钢物体上进行石墨、漆黑、蓝色、铜色和青铜色的通用处理。特别适用于高端豪华部件。 标准应用 珠宝、表带和表身、不锈钢运动器材、书写工具 电子消费品手机、笔记本电脑、相机、无人机 家用电子产品 车载电子产品； 不锈钢餐具 医疗器械和植入物 RTAS 设备配备圆弧和圆柱溅射沉积源。直流溅射、中频溅射、电弧蒸发和离子源等多种组合。所有这些都可在一台设备上实现，配置灵活性高，可满足各种应用需求。特别适用于小型部件的美观涂层：喷射黑、铜、黄铜和铬色。 与直流和射频溅射相比，中频溅射已成为大规模生产涂层的主要薄膜溅射技术，特别是用于表面电介质和非导电薄膜涂层的薄膜沉积，如光学涂层、太阳能电池板、多层、复合材料薄膜等。 它正在取代射频溅射，因为射频溅射的工作频率为千赫，而不是兆赫，沉积速度更快，而且还能避免像直流电那样在复合薄膜沉积过程中出现的目标中毒现象。