PVD镀膜机 Multi950

PECVD磁控溅射电弧蒸发

Multi950 设备位多面体(八面体)结构, 可安装:1套阳极层离子源,1对MF中频磁控溅射阴极； 1对PECVD阴极, 8只可控阴极弧发射源.且安装法兰均为标准型号,实现 离子源,弧与溅射阴极随工艺不同而灵活互换的功能. 设备特点 1. 灵活性:腔体采用侧壁八面体设计,前后开门；每个面采用门法兰安装方式,阴极,弧源,溅射阴极,离子源等器件分别安装于各个门法兰上；可实现灵活互换,对R&D研发新涂层非常适用 2. 多样性:可以沉积各种本金属和金属合金;光学膜,硬质涂层,软质涂层,复合膜 及在金属和非金属基材上镀制固体润滑膜. 3.直观性:前后双开门结构,便于维护. 设计优势: 1. 安装空间为H 3m X L 5m X W 3m 2. 冷却水流量6.0ton/hr 3. 水冷系统:门法兰面背面铣槽封焊铣平抛光处理,但在其他需要水冷部位,采用焊接水冷管/水道来实现冷却,这样不仅使得设备外形美观,也提高了设备的稳定性,减少了门法兰互换过程中的工作量,降低了设备的生产成本. 4. 为了方便设备实验过程中的观察和后续的科学研究,我们在真空室顶部预留三个法兰位置,用于安装观察窗,以方便于图像的捕集和视频的录制. 5. 设备的气体流量控制单独放置,以期远离真空腔室,保证设备外观的协调感 6. 门法兰上的观察窗能够在对开门的六个面上任意互换安装,以便于实验过程中的现象观察,及确保工艺的稳定性. 7. 靶的挡板采用手动调节(也可以使用气缸转动)进而满足工艺过程的遮挡或者洗靶需要；在进行不同的生产或实验过程中,通过调节挡板来实现未使用靶的遮挡,以期来防止靶面的污染；弧靶的挡板是半圆形挡板旋转拼装遮挡弧靶. 8. 设备检测反馈系统:真空度检测信息反馈保证泵组的正常使用,冷却水温度压力信号反馈预警实时了解设备冷却情况,门限位信号确保腔室门关闭,保证泵组的安全使用,靶电流电压信号收集保证工艺稳定性,信号预警报警提醒,确保机械正常使用.