PVD镀膜机 RTAS1250-BLACK磁控溅射电弧蒸发用于金刚石碳保护层
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产品规格型号
- 方法
- PVD
- 所用技术
- 磁控溅射, 电弧蒸发
- 镀层类型
- 用于金刚石碳保护层
- 其他特性
- 真空, 旋转阴极式
产品介绍
PVD真空镀膜机/磁控溅射镀膜机，冶金PVD镀膜机
本机适用于工业生产-真空镀膜系统。它由大尺寸的平原电弧离子蒸发源制成，可以通过电弧蒸发技术沉积高性能的硬质金属膜，如TiN、TiCN、AlTiN以及根据客户要求的各种其他特殊膜。
DLC涂层（类金刚石碳）是金刚石（SP3）和石墨（SP2）的组合。DLC的物理和化学特性介于金刚石和石墨DLC涂层的特性之间。
沉积的薄膜对表面有很强的附着力。
涂层的硬度可与金刚石的硬度相媲美。
耐用性。
低摩擦系数。
化学稳定性。
生态清洁性。
生物学兼容性。
在光谱的红外线波段中具有透明度。
高导热性。
抗腐蚀性。
高抗电性
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