PVD镀膜机 RTAS1250-BLACK
磁控溅射电弧蒸发用于金刚石碳保护层

PVD镀膜机
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产品规格型号

方法
PVD
所用技术
磁控溅射, 电弧蒸发
镀层类型
用于金刚石碳保护层
其他特性
真空, 旋转阴极式

产品介绍

PVD真空镀膜机/磁控溅射镀膜机,冶金PVD镀膜机 本机适用于工业生产-真空镀膜系统。它由大尺寸的平原电弧离子蒸发源制成,可以通过电弧蒸发技术沉积高性能的硬质金属膜,如TiN、TiCN、AlTiN以及根据客户要求的各种其他特殊膜。 DLC涂层(类金刚石碳)是金刚石(SP3)和石墨(SP2)的组合。DLC的物理和化学特性介于金刚石和石墨DLC涂层的特性之间。 沉积的薄膜对表面有很强的附着力。 涂层的硬度可与金刚石的硬度相媲美。 耐用性。 低摩擦系数。 化学稳定性。 生态清洁性。 生物学兼容性。 在光谱的红外线波段中具有透明度。 高导热性。 抗腐蚀性。 高抗电性

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* 显示价格为参考价,此价格不含税、不含运费、不含关税,也不包含因安装或投入使用所产生的其他额外费用。参考价格可能因国家、原材料价格和汇率的不同而产生变化。