PVD镀膜机 Multi950

PECVD溅射真空

占地面积小、 标准模块化设计、 灵活 可靠、 八进制腔体 双门结构，方便进出、 PVD + PECVD 工艺。 设计特点 1.灵活性：电弧和溅射阴极、离子源安装法兰均已标准化，可灵活交换； 2.多功能性：可在金属和非金属材料基底上沉积各种贱金属和合金、光学镀膜、硬镀膜、软镀膜、复合膜和固体润滑膜。 3.设计简洁：双门结构，前后开门，便于维护。 Multi950 设备是为研发部门量身定制的多功能真空镀膜系统。经过与陈教授带领的上海大学团队长达半年的讨论，我们最终确定了设计和配置，以满足他们的研发应用需求。这套系统可以用 PECVD 工艺沉积透明的 DLC 薄膜，也可以在工具上沉积硬质涂层，还可以用溅射阴极沉积光学薄膜。在此试验机设计理念的基础上，我们随后又开发了另外 3 套镀膜系统： 1.用于燃料电池电动汽车的双极板涂层--FCEV1213、 2.陶瓷直接镀铜- DPC1215、 3.柔性溅射系统- RTSP1215。