PVD镀膜机 RTSP1000

PECVD磁控溅射电弧蒸发

闭场不平衡磁控溅射沉积系统、不平衡磁控溅射离子镀 不平衡和闭场磁控管工艺具有平面磁控子的所有优点。 其他优点和缺点是： -额外的离子轰炸导致致致密的粘合膜 -离子辅助和基材清洗 -改进的耐摩擦、耐磨和耐腐蚀薄膜 -适用于多层、超晶格、纳米胺和纳米复合薄膜 -较差材料的使用 -更复杂的阴极配置/费用 不平衡和闭场磁控溅射彻底改变了磁控溅射工艺可实现的性能。 这项技术在薄膜摩擦学、耐腐蚀性和光学性能方面取得了成功，磁控管技术的改进才刚刚开始。 下一篇博客，我们将介绍旋转和圆柱磁控管工艺以及由此产生的薄膜应用。